শিল্প সংবাদ

নিবন্ধটি একটি একক স্ফটিক চুল্লীতে তাপমাত্রার গ্রেডিয়েন্ট ব্যাখ্যা করে। এটি স্ফটিক বৃদ্ধির সময় স্থির এবং গতিশীল তাপ ক্ষেত্রগুলি, সলিড-লিকুইড ইন্টারফেস এবং দৃ ification ়তার ক্ষেত্রে তাপমাত্রার গ্রেডিয়েন্টের ভূমিকা কভার করে।

তাইকো প্রক্রিয়া সিলিকন ওয়েফারগুলি এর নীতিগুলি, প্রযুক্তিগত সুবিধা এবং প্রক্রিয়া উত্স ব্যবহার করে থিনস।

8 ইঞ্চি সিক এপিট্যাক্সিয়াল ফার্নেস এবং হোমোপিট্যাক্সিয়াল প্রক্রিয়া গবেষণা

নিবন্ধটি সিলিকন, GaAs, SiC এবং GaN এর মতো সেমিকন্ডাক্টর সাবস্ট্রেট ওয়েফারগুলির উপাদান বৈশিষ্ট্যগুলি বিশ্লেষণ করে

এই নিবন্ধটি মূলত গণ-ভিত্তিক উপকরণগুলির স্ফটিক কাঠামো, 3। এপিট্যাক্সিয়াল প্রযুক্তি প্রয়োজনীয়তা এবং বাস্তবায়ন সমাধান, পিভিডি নীতিগুলির উপর ভিত্তি করে নিম্ন-তাপমাত্রা এপিট্যাক্সিয়াল প্রযুক্তির সুবিধা এবং নিম্ন-তাপমাত্রার এপিট্যাক্সিয়াল প্রযুক্তির বিকাশের সম্ভাবনা সহ গাএন-ভিত্তিক নিম্ন-তাপমাত্রার এপিট্যাক্সিয়াল প্রযুক্তি বর্ণনা করে।

এই নিবন্ধটি প্রথমে টিএসি এর আণবিক কাঠামো এবং শারীরিক বৈশিষ্ট্যগুলি প্রবর্তন করে এবং সিন্টারড ট্যানটালাম কার্বাইড এবং সিভিডি ট্যানটালাম কার্বাইডের পাশাপাশি ভেটেক সেমিকন্ডাক্টরের জনপ্রিয় টিএসি লেপ পণ্যগুলির পার্থক্য এবং অ্যাপ্লিকেশনগুলিতে মনোনিবেশ করে।