ছিদ্রযুক্ত গ্রাফাইট

SiC সাবস্ট্রেট প্রযোজকরা সাধারণত গরম ক্ষেত্রের প্রক্রিয়ার জন্য একটি ছিদ্রযুক্ত গ্রাফাইট সিলিন্ডার সহ একটি ক্রুসিবল ডিজাইন ব্যবহার করে। এই নকশা বাষ্পীভবন এলাকা এবং চার্জ ভলিউম বৃদ্ধি. স্ফটিক ত্রুটিগুলি মোকাবেলা করতে, ভর স্থানান্তর স্থিতিশীল করতে এবং SiC স্ফটিক গুণমান উন্নত করার জন্য একটি নতুন প্রক্রিয়া তৈরি করা হয়েছে। এটি তাপীয় সম্প্রসারণ এবং চাপ উপশমের জন্য একটি বীজহীন স্ফটিক ট্রে ফিক্সেশন পদ্ধতি অন্তর্ভুক্ত করে। যাইহোক, ক্রুসিবল গ্রাফাইট এবং ছিদ্রযুক্ত গ্রাফাইটের সীমিত বাজার সরবরাহ SiC একক ক্রিস্টালের গুণমান এবং ফলনকে চ্যালেঞ্জ করে।

VeTek সেমিকন্ডাক্টর পোরাস গ্রাফাইটের মূল বৈশিষ্ট্য:

1. উচ্চ তাপমাত্রার পরিবেশ সহনশীলতা - পণ্যটি 2500 ডিগ্রি সেলসিয়াস পরিবেশ সহ্য করতে পারে, চমৎকার তাপ প্রতিরোধের প্রদর্শন করে।

2. কঠোর পোরোসিটি কন্ট্রোল - VeTek সেমিকন্ডাক্টর টাইট পোরোসিটি কন্ট্রোল বজায় রাখে, সামঞ্জস্যপূর্ণ কর্মক্ষমতা নিশ্চিত করে।

3. অতি-উচ্চ বিশুদ্ধতা - ব্যবহৃত ছিদ্রযুক্ত গ্রাফাইট উপাদান কঠোর পরিশোধন প্রক্রিয়ার মাধ্যমে উচ্চ স্তরের বিশুদ্ধতা অর্জন করে।

4. চমৎকার পৃষ্ঠ কণা বাঁধাই ক্ষমতা - VeTek সেমিকন্ডাক্টর চমৎকার পৃষ্ঠ কণা বাঁধাই ক্ষমতা এবং পাউডার আনুগত্য প্রতিরোধের আছে.

5.গ্যাস পরিবহন, প্রসারণ এবং অভিন্নতা - গ্রাফাইটের ছিদ্রযুক্ত কাঠামো দক্ষ গ্যাস পরিবহন এবং প্রসারণকে সহজতর করে, যার ফলে গ্যাস এবং কণার অভিন্নতা উন্নত হয়।

6.গুণমান নিয়ন্ত্রণ এবং স্থিতিশীলতা - VeTek সেমিকন্ডাক্টর উচ্চ বিশুদ্ধতা, কম অপরিষ্কার বিষয়বস্তু এবং ক্রিস্টাল বৃদ্ধিতে গুণমান নিশ্চিত করতে রাসায়নিক স্থিতিশীলতার উপর জোর দেয়।

7. তাপমাত্রা নিয়ন্ত্রণ এবং অভিন্নতা - ছিদ্রযুক্ত গ্রাফাইটের তাপ পরিবাহিতা অভিন্ন তাপমাত্রা বন্টন করতে সক্ষম করে, বৃদ্ধির সময় চাপ এবং ত্রুটিগুলি হ্রাস করে।

8. বর্ধিত দ্রবণ প্রসারণ এবং বৃদ্ধির হার - ছিদ্রযুক্ত কাঠামো এমনকি দ্রবণ বিতরণকে উৎসাহিত করে, বৃদ্ধির হার এবং স্ফটিকগুলির অভিন্নতা বাড়ায়।