শিল্প সংবাদ

শারীরিক বাষ্প পরিবহন (পিভিটি) পদ্ধতি ব্যবহার করে এসআইসি এবং এএলএন একক স্ফটিকগুলির বৃদ্ধিতে, ক্রুশিবল, বীজ ধারক এবং গাইড রিং এর মতো গুরুত্বপূর্ণ উপাদানগুলি একটি গুরুত্বপূর্ণ ভূমিকা পালন করে। চিত্র 2 [1] এ বর্ণিত হিসাবে, পিভিটি প্রক্রিয়া চলাকালীন, বীজ স্ফটিকটি নিম্ন তাপমাত্রা অঞ্চলে অবস্থিত, যখন এসআইসি কাঁচামালটি উচ্চতর তাপমাত্রায় (2400 ℃ এর উপরে) সংস্পর্শে আসে।

সিলিকন কার্বাইড স্তরগুলির অনেকগুলি ত্রুটি রয়েছে এবং এটি সরাসরি প্রক্রিয়া করা যায় না। চিপ ওয়েফারগুলি তৈরি করতে একটি এপিট্যাক্সিয়াল প্রক্রিয়াটির মাধ্যমে তাদের উপর একটি নির্দিষ্ট একক স্ফটিক পাতলা ফিল্ম জন্মানো দরকার। এই পাতলা ফিল্মটি এপিট্যাক্সিয়াল স্তর। প্রায় সমস্ত সিলিকন কার্বাইড ডিভাইসগুলি এপিট্যাক্সিয়াল উপকরণগুলিতে উপলব্ধি করা হয়। উচ্চ মানের সিলিকন কার্বাইড সমজাতীয় এপিট্যাক্সিয়াল উপকরণ সিলিকন কার্বাইড ডিভাইসগুলির বিকাশের ভিত্তি। এপিট্যাক্সিয়াল উপকরণগুলির কার্যকারিতা সরাসরি সিলিকন কার্বাইড ডিভাইসের পারফরম্যান্সের উপলব্ধি নির্ধারণ করে।

সিলিকন কার্বাইড বিদ্যুৎ এবং উচ্চ-তাপমাত্রার অ্যাপ্লিকেশনগুলির জন্য সেমিকন্ডাক্টর শিল্পকে পুনরায় আকার দিচ্ছে, এর বিস্তৃত বৈশিষ্ট্য সহ, এপিট্যাক্সিয়াল সাবস্ট্রেট থেকে শুরু করে প্রতিরক্ষামূলক আবরণ থেকে বৈদ্যুতিক যানবাহন এবং পুনর্নবীকরণযোগ্য শক্তি সিস্টেম পর্যন্ত।

উচ্চ বিশুদ্ধতা: রাসায়নিক বাষ্প জমা (CVD) দ্বারা উত্থিত সিলিকন এপিটাক্সিয়াল স্তরের অত্যন্ত উচ্চ বিশুদ্ধতা, ভাল পৃষ্ঠ সমতলতা এবং প্রথাগত ওয়েফারের তুলনায় কম ত্রুটির ঘনত্ব রয়েছে।

সলিড সিলিকন কার্বাইড (এসআইসি) এর অনন্য শারীরিক বৈশিষ্ট্যের কারণে সেমিকন্ডাক্টর ম্যানুফ্যাকচারিংয়ের অন্যতম মূল উপকরণ হয়ে উঠেছে। নিম্নলিখিতটি এর শারীরিক বৈশিষ্ট্য এবং সেমিকন্ডাক্টর সরঞ্জামগুলিতে এর নির্দিষ্ট অ্যাপ্লিকেশনগুলির উপর ভিত্তি করে এর সুবিধাগুলি এবং ব্যবহারিক মানের বিশ্লেষণ (যেমন ওয়েফার ক্যারিয়ার, ঝরনা মাথা, এচিং ফোকাস রিং ইত্যাদি) এর উপর ভিত্তি করে।