শিল্প সংবাদ

উচ্চ বিশুদ্ধতা: রাসায়নিক বাষ্প জমা (CVD) দ্বারা উত্থিত সিলিকন এপিটাক্সিয়াল স্তরের অত্যন্ত উচ্চ বিশুদ্ধতা, ভাল পৃষ্ঠ সমতলতা এবং প্রথাগত ওয়েফারের তুলনায় কম ত্রুটির ঘনত্ব রয়েছে।

সলিড সিলিকন কার্বাইড (এসআইসি) এর অনন্য শারীরিক বৈশিষ্ট্যের কারণে সেমিকন্ডাক্টর ম্যানুফ্যাকচারিংয়ের অন্যতম মূল উপকরণ হয়ে উঠেছে। নিম্নলিখিতটি এর শারীরিক বৈশিষ্ট্য এবং সেমিকন্ডাক্টর সরঞ্জামগুলিতে এর নির্দিষ্ট অ্যাপ্লিকেশনগুলির উপর ভিত্তি করে এর সুবিধাগুলি এবং ব্যবহারিক মানের বিশ্লেষণ (যেমন ওয়েফার ক্যারিয়ার, ঝরনা মাথা, এচিং ফোকাস রিং ইত্যাদি) এর উপর ভিত্তি করে।