একটি পেশাদার SiC লেপ ওয়েফার ক্যারিয়ার প্রস্তুতকারক এবং সরবরাহকারী হিসাবে, ভেটেক সেমিকন্ডাক্টরের SiC লেপ ওয়েফার ক্যারিয়ারগুলি প্রধানত উচ্চ তাপমাত্রা এবং ক্ষয়কারী পরিবেশে তাদের স্থিতিশীলতা এবং অখণ্ডতা নিশ্চিত করে এপিটাক্সিয়াল স্তরের বৃদ্ধির অভিন্নতা উন্নত করতে ব্যবহৃত হয়।
Vetek সেমিকন্ডাক্টর উচ্চ-কার্যক্ষমতা সম্পন্ন SiC আবরণ ওয়েফার ক্যারিয়ার উত্পাদন এবং সরবরাহে বিশেষজ্ঞ এবং সেমিকন্ডাক্টর শিল্পে উন্নত প্রযুক্তি এবং পণ্য সমাধান প্রদানের জন্য প্রতিশ্রুতিবদ্ধ।
সেমিকন্ডাক্টর ম্যানুফ্যাকচারিংয়ে, ভেটেক সেমিকন্ডাক্টরের SiC লেপ ওয়েফার ক্যারিয়ার রাসায়নিক বাষ্প জমা (CVD) সরঞ্জামের একটি মূল উপাদান, বিশেষ করে ধাতু জৈব রাসায়নিক বাষ্প জমা (MOCVD) সরঞ্জামগুলিতে। এর প্রধান কাজ হল একক ক্রিস্টাল সাবস্ট্রেটকে সমর্থন করা এবং গরম করা যাতে এপিটাক্সিয়াল স্তরটি সমানভাবে বৃদ্ধি পেতে পারে। উচ্চ-মানের সেমিকন্ডাক্টর ডিভাইস তৈরির জন্য এটি অপরিহার্য।
SiC আবরণের ক্ষয় প্রতিরোধ ক্ষমতা খুব ভাল, যা কার্যকরভাবে গ্রাফাইট বেসকে ক্ষয়কারী গ্যাস থেকে রক্ষা করতে পারে। এটি উচ্চ তাপমাত্রা এবং ক্ষয়কারী পরিবেশে বিশেষভাবে গুরুত্বপূর্ণ। উপরন্তু, SiC উপাদানের তাপ পরিবাহিতাও খুব চমৎকার, যা সমানভাবে তাপ পরিচালনা করতে পারে এবং অভিন্ন তাপমাত্রা বন্টন নিশ্চিত করতে পারে, যার ফলে এপিটাক্সিয়াল উপকরণগুলির বৃদ্ধির গুণমান উন্নত হয়।
SiC আবরণ উচ্চ তাপমাত্রা এবং ক্ষয়কারী বায়ুমণ্ডলে রাসায়নিক স্থিতিশীলতা বজায় রাখে, আবরণ ব্যর্থতার সমস্যা এড়ায়। আরও গুরুত্বপূর্ণ, SiC-এর তাপীয় সম্প্রসারণ সহগ গ্রাফাইটের অনুরূপ, যা তাপীয় সম্প্রসারণ এবং সংকোচনের কারণে আবরণ শেডিং সমস্যা এড়াতে পারে এবং আবরণের দীর্ঘমেয়াদী স্থিতিশীলতা এবং নির্ভরযোগ্যতা নিশ্চিত করতে পারে।
এর মৌলিক শারীরিক বৈশিষ্ট্যSiC আবরণ ওয়েফার ক্যারিয়ার:
For inquiries about Silicon Carbide Coating, Tantalum Carbide Coating, Special Graphite or price list, please leave your email to us and we will be in touch within 24 hours.
আমরা আপনাকে একটি ভাল ব্রাউজিং অভিজ্ঞতা দিতে, সাইটের ট্র্যাফিক বিশ্লেষণ করতে এবং সামগ্রী ব্যক্তিগতকৃত করতে কুকিজ ব্যবহার করি। এই সাইটটি ব্যবহার করে, আপনি আমাদের কুকিজ ব্যবহারে সম্মত হন। গোপনীয়তা নীতি