পণ্য
পণ্য
অ্যালুমিনিয়াম নাইট্রাইড (AlN) সিরামিক ইলেক্ট্রোস্ট্যাটিক চক
  • অ্যালুমিনিয়াম নাইট্রাইড (AlN) সিরামিক ইলেক্ট্রোস্ট্যাটিক চকঅ্যালুমিনিয়াম নাইট্রাইড (AlN) সিরামিক ইলেক্ট্রোস্ট্যাটিক চক

অ্যালুমিনিয়াম নাইট্রাইড (AlN) সিরামিক ইলেক্ট্রোস্ট্যাটিক চক

VeTek অ্যালুমিনিয়াম নাইট্রাইড সিরামিক ইলেক্ট্রোস্ট্যাটিক চাকস (ESCs) হল উচ্চ-তাপ-পরিবাহিতা ওয়েফার ক্ল্যাম্পিং প্ল্যাটফর্ম যা সেমিকন্ডাক্টর প্রক্রিয়া সরঞ্জামগুলির জন্য তৈরি করা হয়েছে যা সুনির্দিষ্ট তাপমাত্রা নিয়ন্ত্রণ, স্থিতিশীল ইলেক্ট্রোস্ট্যাটিক হোল্ডিং এবং কম কণা তৈরির দাবি রাখে। উচ্চ-বিশুদ্ধতা AlN সিরামিক থেকে তৈরি, এই চকগুলি 150 মিমি, 200 মিমি এবং 300 মিমি ওয়েফার প্রক্রিয়ার জন্য চমৎকার তাপ ছড়ানো, উচ্চ বৈদ্যুতিক নিরোধক এবং নির্ভরযোগ্য কুলম্ব বা জনসেন-রাহবেক ক্ল্যাম্পিং প্রদান করে।
    রেটিং: 5.0
    (রেটিং কাউন্ট: 1)

    1.সুবিধা

    • দক্ষ তাপ স্থানান্তর এবং তাপমাত্রা অভিন্নতার জন্য ~180 W/m·K পর্যন্ত তাপ পরিবাহিতা সহ উচ্চ-বিশুদ্ধতা AlN সিরামিক

    • শক্তিশালী বৈদ্যুতিক নিরোধক এবং উচ্চ আয়তনের প্রতিরোধ ক্ষমতা 1-3 কেভিতে স্থিতিশীল ক্ল্যাম্পিং সমর্থন করে (উচ্চ ভোল্টেজ উপলব্ধ)

    • কাস্টম অস্তরক স্তর উপকরণ এবং ইলেক্ট্রোড বিন্যাস: Coulomb বা Johnsen–Rahbek (JR); একক বা বহু-জোন

    • দ্রুত ক্ল্যাম্প এবং ডি-ক্ল্যাম্প কর্মক্ষমতা, সাধারণত 0.1 সেকেন্ডের নিচে

    • সারফেস ডিম্পল মাইক্রোস্ট্রাকচার ~300 μm ব্যাস পর্যন্ত, যোগাযোগের ক্ষেত্রকে ~1% পর্যন্ত কমিয়ে দেয়

    • উচ্চ সমতলতা ক্ষমতা; 300 মিমি শ্রেণীর প্ল্যাটফর্মের জন্য 0.5-3 μm পিভির ক্রম অনুসারে সাধারণ বিশ্বব্যাপী সমতলতা

    • প্রায় শূন্য জল শোষণ এবং প্রক্রিয়া পরিবেশের জন্য ভাল রাসায়নিক প্রতিরোধের সঙ্গে ঘন microstructure

    2.সাধারণ অ্যাপ্লিকেশন

    অ্যালুমিনিয়াম নাইট্রাইড সিরামিক ইলেক্ট্রোস্ট্যাটিক চকগুলি প্রক্রিয়া পদক্ষেপগুলিতে ব্যবহৃত হয় যার জন্য নিরাপদ ওয়েফার হোল্ডিং এবং নিয়ন্ত্রিত তাপীয় আচরণ উভয়ই প্রয়োজন:

    • শুকনো প্লাজমা এচ (ICP / RIE) এবং সম্পর্কিত চেম্বার প্রক্রিয়া

    • CVD, PEALD, থার্মাল ALD, এবং অন্যান্য পাতলা-ফিল্ম জমার পর্যায়

    • অ্যানিলিং এবং তাপ প্রক্রিয়া মডিউলগুলির জন্য অভিন্ন ওয়েফার তাপমাত্রা প্রয়োজন

    • পরিদর্শন, পরিমাপবিদ্যা, এবং নির্ভুলতা পর্যায়ে যেখানে কম কণা এবং স্থিতিশীল ক্ল্যাম্পিং গুরুত্বপূর্ণ

    3.AlN উপাদান গ্রেড - সাধারণ বৈশিষ্ট্য

    VeTek তাপ পরিবাহিতা, যান্ত্রিক শক্তি এবং ESC ডিজাইনের জন্য খরচের ভারসাম্য বজায় রাখতে একাধিক অ্যালুমিনিয়াম নাইট্রাইড গ্রেড অফার করে:

    সম্পত্তি

    AIN-HC95

    AIN-HP95

    AIN99

    AIN999

    AIN-HP999

    AIN-HP999LR

    রঙ

    ধূসর

    ধূসর

    ধূসর

    ধূসর

    ধূসর

    ধূসর

    বিশুদ্ধতা

    ≥95%

    ≥95%

    ≥99%

    ≥99.9%

    ≥99.9%

    ≥99.9%

    ঘনত্ব (g/cm³)

    3.3

    3.3

    3.3

    3.2

    3.3

    3.3

    জল শোষণ (%)

    0

    0

    0

    0

    0

    0

    HV কঠোরতা (GPa)

    10

    10

    10

    10

    10

    10

    নমনীয় শক্তি (MPa)

    380

    400

    350

    310

    360

    310

    ইলাস্টিক মডুলাস (GPa)

    320

    300

    300

    300

    300

    300

    ফ্র্যাকচার টাফনেস

    3

    3.4

    3

    2.8

    2.3

    3.3

    CTE (×10⁻⁶/°C)

    4.6

    5.7

    5.2

    5.5

    5.7

    5.4

    তাপ পরিবাহিতা

    180

    180

    100

    90

    90

    90

    থার্মাল শক (°সে)

    400

    500

    —

    —

    350

    —

    অস্তরক শক্তি

    16

    16

    —

    16

    —

    —

    ভলিউম প্রতিরোধ ক্ষমতা

    1×10¹⁴

    1×10¹⁵

    1×10¹⁵

    —

    1×10¹⁵

    সামঞ্জস্যযোগ্য

    অস্তরক ধ্রুবক

    8.6

    8.6

    8.5

    8.5

    —

    —

    ইউনিট: W/(m·K) তে তাপ পরিবাহিতা; কেভি/মিমিতে অস্তরক শক্তি; Ω·cm (25 °C) এ আয়তনের প্রতিরোধ ক্ষমতা; 1 MHz এ অস্তরক ধ্রুবক। মানগুলি সাধারণ এবং প্রক্রিয়া এবং অংশ জ্যামিতির সাথে পরিবর্তিত হতে পারে।

    4.সাধারণ ESC ডিজাইন প্যারামিটার

    প্যারামিটার

    সাধারণ মান / পরিসর

    সিরামিক উপাদান

    অ্যালুমিনিয়াম নাইট্রাইড (AlN)

    ESC প্রকার

    কুলম্ব / জনসেন-রাহবেক (জেআর)

    ইলেক্ট্রোড লেআউট

    একক বা বহু-জোন

    উত্পাদন রুট

    হট প্রেসিং (উচ্চ-টিসি গ্রেডের জন্য AlN পছন্দের)

    ক্ল্যাম্প/ডি-ক্ল্যাম্প সময়

    < 0.1 সেকেন্ড (সাধারণ)

    ডিম্পল ব্যাস (মিনিট)

    ~300 μm

    যোগাযোগ এলাকা (ডিম্পল সহ)

    ~1% কমানো যেতে পারে

    গ্লোবাল সমতলতা (300 মিমি ক্লাস)

    ~0.5–3 μm PV (সাধারণ)

    ক্ল্যাম্পিং ভোল্টেজ

    1-3 কেভি স্ট্যান্ডার্ড; ডিজাইন >15 কেভি সম্ভব

    5.কেন চুসে VeTek AlN ইলেক্ট্রোস্ট্যাটিক চক?

    VeTek সেমিকন্ডাক্টর সেমিকন্ডাক্টর গ্রাহকদের জন্য নির্ভুল ESC উত্পাদনের সাথে উন্নত AlN সিরামিককে সংহত করে যাদের তাপীয় কার্যক্ষমতা এবং নির্ভরযোগ্য ক্ল্যাম্পিং উভয়ই প্রয়োজন:

    • প্রক্রিয়া তাপীয় বাজেটের সাথে মেলে ~90 থেকে ~180 W/m·K পর্যন্ত তাপ পরিবাহিতা সহ একাধিক AlN গ্রেড

    • কুলম্ব বা জেআর ক্ল্যাম্পিং আচরণের জন্য নমনীয় ইলেক্ট্রোড এবং অস্তরক নকশা

    • সমতলতা, পৃষ্ঠের মাইক্রোস্ট্রাকচার এবং বৈদ্যুতিক নিরোধক কর্মক্ষমতার কঠোর নিয়ন্ত্রণ

    • সম্পূর্ণ জীবনচক্র সমর্থন: নকশা, নতুন নির্মাণ, এবং বহু-স্তরের পুনর্নবীকরণ

    এচ, ডিপোজিশন এবং তাপীয় সরঞ্জামগুলির জন্য যা অভিন্ন ওয়েফার তাপমাত্রা এবং পরিষ্কার, পুনরাবৃত্তিযোগ্য ক্ল্যাম্পিংয়ের উপর নির্ভর করে, VeTek অ্যালুমিনিয়াম নাইট্রাইড সিরামিক ইলেক্ট্রোস্ট্যাটিক চকগুলি অ্যাপ্লিকেশন-কেন্দ্রিক প্রকৌশল সমর্থন দ্বারা সমর্থিত একটি উচ্চ-কর্মক্ষমতা সিরামিক প্ল্যাটফর্ম সরবরাহ করে।

    অনুসন্ধান পাঠান
    যোগাযোগের তথ্য
    • ঠিকানা

      ওয়াংদা রোড, জিয়াং স্ট্রিট, উয়ি কাউন্টি, জিনহুয়া সিটি, ঝেজিয়াং প্রদেশ, চীন

    • টেলিফোন

      +86-18069220752

    • ইমেইল

      anny@veteksemi.com

    For inquiries about Silicon Carbide Coating, Tantalum Carbide Coating, Special Graphite or price list, please leave your email to us and we will be in touch within 24 hours.
    রেটিং:
    5.0
    X
    আমরা আপনাকে একটি ভাল ব্রাউজিং অভিজ্ঞতা দিতে, সাইটের ট্র্যাফিক বিশ্লেষণ করতে এবং সামগ্রী ব্যক্তিগতকৃত করতে কুকিজ ব্যবহার করি। এই সাইটটি ব্যবহার করে, আপনি আমাদের কুকিজ ব্যবহারে সম্মত হন। গোপনীয়তা নীতি
    প্রত্যাখ্যান করুনগ্রহণ করুন