AMAT 0200-03201 CVD SiC ওয়েফার লিফট পিন

পণ্য বৈশিষ্ট্য

 ● উচ্চ-বিশুদ্ধতা গ্রাফাইট কোর + CVD SiC আবরণ – প্রকৃত অর্ধপরিবাহী উৎপাদনের জন্য নির্মিত।

 ● চক্রের পর যান্ত্রিক স্থিতিশীলতা চক্র হারানো ছাড়া উচ্চ-তাপমাত্রার এপিটাক্সি রান পরিচালনা করে।

 ● পাতলা প্রাচীর আকৃতি তাপ ভর কমিয়ে দেয় এবং ওয়েফার হ্যান্ডলিং নির্ভুলতা উন্নত করে।

 ● SiC স্তর আক্রমনাত্মক প্রক্রিয়া গ্যাস এবং রাসায়নিক পরিষ্কারের জন্য দাঁড়ায়।

 ● মসৃণ, অভিন্ন আবরণ মানে কম কণা ঝরানো এবং আরও স্থিতিশীল প্রক্রিয়াকরণ। আমরা সমালোচনামূলক সেমিকন্ডাক্টর যন্ত্রাংশের জন্য CNC মেশিনের সাথে শক্ত সহনশীলতা রাখি।

CVD SiC আবরণের মৌলিক শারীরিক বৈশিষ্ট্য

অ্যাপ্লিকেশন

 ● সিলিকন এপিটাক্সি (Si EPI) – 300 মিমি চুল্লির ভিতরে ওয়েফার উত্তোলন, অবস্থান এবং চলমান।

 ● সাধারণ সেমিকন্ডাক্টর ওয়েফার প্রক্রিয়াকরণ যেখানে আপনার প্রয়োজন তাপ স্থিতিশীলতা, জারা প্রতিরোধের, কম কণা এবং দীর্ঘ অংশ জীবন।

 ● AMAT এপিটাক্সি চেম্বার এবং সামঞ্জস্যপূর্ণ ওয়েফার হ্যান্ডলিং সিস্টেম।

কেন VeTek সেমিকন্ডাক্টর চয়ন করুন

 ● উচ্চ-বিশুদ্ধতা SiC প্রলিপ্ত গ্রাফাইট যা সেমিকন্ডাক্টর ব্যবহারের জন্য।

 ● তাপ স্থিতিশীলতা এবং রাসায়নিক প্রতিরোধ উভয়ই কঠিন।

 ● সহনশীলতা শক্ত রাখুন — নির্ভুল যন্ত্র আমাদের জিনিস।

 ● AMAT, ASM, Aixtron, এবং LPE এর সাথে সামঞ্জস্যপূর্ণ।