ওয়েফার ক্যারিয়ারের জন্য CVD SiC প্রলিপ্ত গ্রাফাইট সাসেপ্টর

1. পণ্যের সুবিধা

• উচ্চ বিশুদ্ধতা উপাদান:সেমিকন্ডাক্টর-গ্রেড গ্রাফাইট উপাদান এবং ঘন SiC আবরণ কাঠামো দূষণের ঝুঁকি হ্রাস করে এবং CVD SiC প্রলিপ্ত গ্রাফাইট সাসেপ্টরের নির্ভরযোগ্যতা উন্নত করে।
• চমৎকার তাপীয় অভিন্নতা:অপ্টিমাইজড গ্রাফাইট গঠন এবং SiC আবরণ স্থিতিশীল তাপ স্থানান্তর এবং অভিন্ন ওয়েফার তাপমাত্রা নিয়ন্ত্রণ প্রদান করে।
• উচ্চতর রাসায়নিক প্রতিরোধের:ঘন SiC আবরণ প্রক্রিয়া গ্যাস এবং ক্ষয়কারী পরিবেশের বিরুদ্ধে শক্তিশালী প্রতিরোধের প্রস্তাব দেয়।
• দীর্ঘ সেবা জীবন:উচ্চ কঠোরতা এবং পরিধান প্রতিরোধের উচ্চ-তাপমাত্রা এপিটাক্সি অবস্থার অধীনে স্থায়িত্ব উন্নত করে।
• নিম্ন কণা সৃষ্টি:ঘন CVD SiC পৃষ্ঠ কণা নিঃসরণ হ্রাস করে এবং ওয়েফার প্রক্রিয়ার নির্ভরযোগ্যতা উন্নত করে।
• কাস্টমাইজড ডিজাইন ক্ষমতা:সরঞ্জামের প্রয়োজনীয়তা অনুসারে বিভিন্ন আকার, কাঠামো এবং কনফিগারেশনে উপলব্ধ।

2. প্রযুক্তিগত বিশেষ উল্লেখ

3. অ্যাপ্লিকেশন

• SiC এপিটাক্সি প্রক্রিয়া:গ্রাফাইট সাসেপ্টরটি SiC এপিটাক্সি সরঞ্জামগুলিতে একটি ওয়েফার ক্যারিয়ার হিসাবে ব্যবহৃত হয়, উচ্চ-তাপমাত্রার এপিটাক্সিয়াল বৃদ্ধির সময় SiC সাবস্ট্রেটকে সমর্থন করে।
• সিলিকন এপিটাক্সি প্রক্রিয়া:ওয়েফার সমর্থন এবং স্থিতিশীল তাপীয় অবস্থা বজায় রাখার জন্য সিলিকন এপিটাক্সিয়াল চুল্লিতে প্রয়োগ করা হয়।
• MOCVD এপিটাক্সি:VETEK গ্রাফাইট সাসেপ্টরগুলি MOCVD, LED epitaxy, GaN epitaxy, সিলিকন এপিটাক্সি, এবং অন্যান্য সেমিকন্ডাক্টর উত্পাদন প্রক্রিয়াগুলির জন্য উপযুক্ত যার জন্য চমৎকার তাপীয় অভিন্নতা এবং রাসায়নিক স্থিতিশীলতা প্রয়োজন।
• সেমিকন্ডাক্টর উত্পাদন সরঞ্জাম:LPE অনুভূমিক চুল্লি, Aixtron, NuFlare এবং সম্পর্কিত সেমিকন্ডাক্টর সরঞ্জাম সহ বিভিন্ন এপিটাক্সি প্ল্যাটফর্মের সাথে সামঞ্জস্যপূর্ণ।

4. কেন VETEK বেছে নিন?

VETEK কাস্টমাইজড CVD SiC প্রলিপ্ত গ্রাফাইট সাসেপ্টর সমাধান প্রদান করে যা গ্রাফাইট পরিশোধন, নির্ভুল মেশিনিং, CVD আবরণ এবং পরিদর্শন ক্ষমতাকে একীভূত করে। আমাদের সেমিকন্ডাক্টর-গ্রেড গ্রাফাইট সাসেপ্টর পণ্যগুলিতে উচ্চ বিশুদ্ধতা, অভিন্ন আবরণের বেধ, চমৎকার তাপ কার্যক্ষমতা এবং ওয়েফার ক্যারিয়ার অ্যাপ্লিকেশনের চাহিদার জন্য দীর্ঘ পরিষেবা জীবন রয়েছে।