SiC প্রলিপ্ত পেডেস্টাল

SiC প্রলিপ্ত গ্রাফাইট অংশ উৎপাদনে বছরের অভিজ্ঞতার সাথে, ভেটেক সেমিকন্ডাক্টর বিস্তৃত SiC প্রলিপ্ত পেডেস্টাল সরবরাহ করতে পারে। উচ্চ মানের SiC প্রলিপ্ত পেডেস্টাল অনেক অ্যাপ্লিকেশন পূরণ করতে পারে, যদি আপনার প্রয়োজন হয়, অনুগ্রহ করে SiC প্রলিপ্ত পেডেস্টাল সম্পর্কে আমাদের অনলাইন সময়মত পরিষেবা পান। নীচের পণ্য তালিকা ছাড়াও, আপনি আপনার নির্দিষ্ট প্রয়োজন অনুযায়ী আপনার নিজস্ব অনন্য SiC প্রলিপ্ত পেডেস্টাল কাস্টমাইজ করতে পারেন।

এমবিই, এলপিই, পিএলডির মতো অন্যান্য পদ্ধতির সাথে তুলনা করে, এমওসিভিডি পদ্ধতিতে উচ্চ বৃদ্ধির দক্ষতা, ভাল নিয়ন্ত্রণ নির্ভুলতা এবং তুলনামূলকভাবে কম খরচের সুবিধা রয়েছে এবং বর্তমান শিল্পে ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়। সেমিকন্ডাক্টর এপিটাক্সিয়াল উপকরণগুলির জন্য ক্রমবর্ধমান চাহিদার সাথে, বিশেষত একটি ওয়াইডের জন্যLD এবং LED-এর মতো অপটোইলেক্ট্রনিক এপিটাক্সিয়াল উপকরণের ই পরিসীমা, উৎপাদন ক্ষমতা আরও বাড়াতে এবং খরচ কমানোর জন্য নতুন সরঞ্জাম ডিজাইন গ্রহণ করা খুবই গুরুত্বপূর্ণ।

তাদের মধ্যে, MOCVD এপিটাক্সিয়াল বৃদ্ধিতে ব্যবহৃত সাবস্ট্রেট সহ লোড করা গ্রাফাইট ট্রে MOCVD সরঞ্জামগুলির একটি অত্যন্ত গুরুত্বপূর্ণ অংশ। গ্রুপ III নাইট্রাইডের এপিটাক্সিয়াল বৃদ্ধিতে ব্যবহৃত গ্রাফাইট ট্রে, গ্রাফাইটে অ্যামোনিয়া, হাইড্রোজেন এবং অন্যান্য গ্যাসের ক্ষয় এড়াতে, সাধারণত গ্রাফাইট ট্রেটির পৃষ্ঠে একটি পাতলা অভিন্ন সিলিকন কার্বাইড প্রতিরক্ষামূলক স্তর দিয়ে প্রলেপ দেওয়া হবে। 

উপাদানের এপিট্যাক্সিয়াল বৃদ্ধিতে সিলিকন কার্বাইড প্রতিরক্ষামূলক স্তরটির অভিন্নতা, ধারাবাহিকতা এবং তাপ পরিবাহিতা খুব বেশি এবং এর জীবনের জন্য নির্দিষ্ট প্রয়োজনীয়তা রয়েছে। ভেটেক সেমিকন্ডাক্টরের এসআইসি প্রলিপ্ত পেডেস্টাল গ্রাফাইট প্যালেটগুলির উত্পাদন ব্যয় হ্রাস করে এবং তাদের পরিষেবা জীবন উন্নত করে, যা এমওসিভিডি সরঞ্জামগুলির ব্যয় হ্রাস করতে দুর্দান্ত ভূমিকা রাখে। এসআইসি লেপযুক্ত পেডেস্টালটি এমওসিভিডি প্রতিক্রিয়া চেম্বারেরও একটি গুরুত্বপূর্ণ অঙ্গ, যা কার্যকরভাবে উত্পাদন দক্ষতা উন্নত করে।

সিভিডি এসআইসি লেপের প্রাথমিক শারীরিক বৈশিষ্ট্য:

CVD SiC আবরণের মৌলিক শারীরিক বৈশিষ্ট্য