ছিদ্রযুক্ত ট্যানটালাম কার্বাইড: এসআইসি স্ফটিক বৃদ্ধির জন্য একটি নতুন প্রজন্মের উপকরণ

পরিবাহী SiC সাবস্ট্রেটের ক্রমান্বয়ে ভর উৎপাদনের সাথে, প্রক্রিয়াটির স্থায়িত্ব এবং পুনরাবৃত্তিযোগ্যতার উপর উচ্চতর প্রয়োজনীয়তা স্থাপন করা হয়। বিশেষত, চুল্লিতে তাপীয় ক্ষেত্রে ত্রুটি, সামান্য সামঞ্জস্য বা ড্রিফ্ট নিয়ন্ত্রণ স্ফটিকের পরিবর্তন বা ত্রুটি বৃদ্ধির দিকে পরিচালিত করবে।

পরবর্তী পর্যায়ে, আমরা "দ্রুত, ঘন এবং দীর্ঘতর বৃদ্ধি" এর চ্যালেঞ্জের মুখোমুখি হব। তত্ত্ব এবং প্রকৌশলের উন্নতির পাশাপাশি, সহায়তা হিসাবে আরও উন্নত তাপীয় ক্ষেত্রের উপকরণ প্রয়োজন। উন্নত ক্রিস্টাল বাড়াতে উন্নত উপকরণ ব্যবহার করুন।

তাপীয় ক্ষেত্রের ক্রুশিবলটিতে গ্রাফাইট, ছিদ্রযুক্ত গ্রাফাইট এবং ট্যান্টালাম কার্বাইড পাউডার হিসাবে উপকরণগুলির অনুপযুক্ত ব্যবহার কার্বন অন্তর্ভুক্তির মতো ত্রুটিগুলি নিয়ে যাবে। তদতিরিক্ত, কিছু অ্যাপ্লিকেশনগুলিতে, ছিদ্রযুক্ত গ্রাফাইটের ব্যাপ্তিযোগ্যতা যথেষ্ট নয় এবং ব্যাপ্তিযোগ্যতা বাড়ানোর জন্য অতিরিক্ত গর্তগুলি খোলার প্রয়োজন। প্রসেসিং, পাউডার ক্ষতি এবং এচিংয়ের মতো উচ্চতর ব্যাপ্তিযোগ্যতার সাথে ছিদ্রযুক্ত গ্রাফাইট চ্যালেঞ্জগুলির মুখোমুখি।

সম্প্রতি, ভেটেক সেমিকন্ডাক্টর এসআইসি স্ফটিক বৃদ্ধি তাপ ক্ষেত্রের উপকরণগুলির একটি নতুন প্রজন্ম চালু করেছে,ছিদ্রযুক্ত ট্যানটালাম কার্বাইড, বিশ্বে প্রথমবারের মতো।

ট্যানটালাম কার্বাইডের উচ্চ শক্তি এবং কঠোরতা রয়েছে এবং এটিকে ছিদ্রযুক্ত করা আরও চ্যালেঞ্জিং। বড় পোরোসিটি এবং উচ্চ বিশুদ্ধতা সহ ছিদ্রযুক্ত ট্যানটালাম কার্বাইড তৈরি করা আরও চ্যালেঞ্জিং। ভেটেক সেমিকন্ডাক্টর বড় পোরোসিটি সহ একটি ব্রেকথ্রু ছিদ্রযুক্ত ট্যান্টালাম কার্বাইড চালু করেছে,সর্বোচ্চ 75%পোরোসিটি সহ, আন্তর্জাতিক শীর্ষস্থানীয় স্তরে পৌঁছেছে.

উপরন্তু, এটি গ্যাস ফেজ উপাদান পরিস্রাবণ, স্থানীয় তাপমাত্রা গ্রেডিয়েন্ট সামঞ্জস্য, উপাদান প্রবাহ দিক নির্দেশক, ফুটো নিয়ন্ত্রণ, ইত্যাদি জন্য ব্যবহার করা যেতে পারে; এটিকে অন্য একটি কঠিন ট্যান্টালম কার্বাইড (ঘন) বা VeTek সেমিকন্ডাক্টরের ট্যান্টালম কার্বাইড আবরণের সাথে একত্রিত করে বিভিন্ন স্থানীয় প্রবাহ কন্ডাক্টেন্স সহ উপাদান তৈরি করা যেতে পারে; কিছু উপাদান পুনরায় ব্যবহার করা যেতে পারে।

প্রযুক্তিগত পরামিতি

পোরোসিটি ≤75% আন্তর্জাতিক নেতৃস্থানীয়

আকার: ফ্লেক, নলাকার আন্তর্জাতিক শীর্ষস্থানীয়

অভিন্ন পোরোসিটি

ভেটেক সেমিকন্ডাক্টর পোরস ট্যানটালাম কার্বাইড (টিএসি) এর নিম্নলিখিত পণ্য বৈশিষ্ট্য রয়েছে

বহুমুখী অ্যাপ্লিকেশনগুলির জন্য পোরোসিটি

টিএসি -র ছিদ্রযুক্ত কাঠামোটি বহুমুখিতা সরবরাহ করে, যেমন বিশেষায়িত পরিস্থিতিতে যেমন এর ব্যবহার সক্ষম করে:

গ্যাসের বিস্তার: অর্ধপরিবাহী প্রক্রিয়ায় সুনির্দিষ্ট গ্যাস প্রবাহ নিয়ন্ত্রণের সুবিধা দেয়।

পরিস্রাবণ: উচ্চ-পারফরম্যান্স পার্টিকুলেট বিচ্ছেদ প্রয়োজন এমন পরিবেশের জন্য আদর্শ।

নিয়ন্ত্রিত তাপ অপচয় হ্রাস: দক্ষতার সাথে উচ্চ-তাপমাত্রা সিস্টেমে তাপ পরিচালনা করে, সামগ্রিক তাপ নিয়ন্ত্রণ বৃদ্ধি করে।

● চরম উচ্চ-তাপমাত্রা প্রতিরোধের

আনুমানিক 3,880°C এর গলনাঙ্কের সাথে, ট্যানটালাম কার্বাইড অতি-উচ্চ-তাপমাত্রার প্রয়োগে উৎকৃষ্ট। এই ব্যতিক্রমী তাপ প্রতিরোধের অবস্থার মধ্যে সামঞ্জস্যপূর্ণ কর্মক্ষমতা নিশ্চিত করে যেখানে বেশিরভাগ উপকরণ ব্যর্থ হয়।

●   উচ্চতর দৃঢ়তা এবং স্থায়িত্ব

ডায়মন্ডের অনুরূপ এমওএইচএস কঠোরতা স্কেলে 9-10 র‌্যাঙ্কিং, ছিদ্রযুক্ত টিএসি এমনকি চরম চাপের মধ্যেও যান্ত্রিক পরিধানের প্রতি অতুলনীয় প্রতিরোধের প্রদর্শন করে। এই স্থায়িত্ব এটিকে ঘর্ষণকারী পরিবেশের সংস্পর্শে আসা অ্যাপ্লিকেশনগুলির জন্য আদর্শ করে তোলে।

● ব্যতিক্রমী তাপীয় স্থায়িত্ব

ট্যান্টালাম কার্বাইড তার কাঠামোগত অখণ্ডতা এবং চরম উত্তাপে কর্মক্ষমতা ধরে রাখে। এর অসাধারণ তাপীয় স্থায়িত্ব উচ্চ-তাপমাত্রার ধারাবাহিকতা যেমন সেমিকন্ডাক্টর উত্পাদন এবং মহাকাশশাসনের জন্য প্রয়োজনীয় শিল্পগুলিতে নির্ভরযোগ্য অপারেশন নিশ্চিত করে।

● দুর্দান্ত তাপ পরিবাহিতা

এর ছিদ্রযুক্ত প্রকৃতি সত্ত্বেও, ছিদ্রযুক্ত TaC দক্ষ তাপ স্থানান্তর বজায় রাখে, যেখানে দ্রুত তাপ অপচয় করা গুরুত্বপূর্ণ এমন সিস্টেমে এর ব্যবহার সক্ষম করে। এই বৈশিষ্ট্যটি তাপ-নিবিড় প্রক্রিয়াগুলিতে উপাদানটির প্রযোজ্যতা বাড়ায়।

Diment মাত্রিক স্থিতিশীলতার জন্য কম তাপীয় প্রসারণ

কম তাপীয় সম্প্রসারণ সহগ সহ, ট্যানটালাম কার্বাইড তাপমাত্রার ওঠানামার কারণে সৃষ্ট মাত্রিক পরিবর্তনগুলিকে প্রতিরোধ করে। এই সম্পত্তি তাপীয় চাপকে হ্রাস করে, উপাদানগুলির আয়ু বাড়ায় এবং সমালোচনামূলক সিস্টেমে নির্ভুলতা বজায় রাখে।

সেমিকন্ডাক্টর ম্যানুফ্যাকচারিংয়ে, ছিদ্রযুক্ত ট্যানটালাম কার্বাইড (টিএসি) নিম্নলিখিত নির্দিষ্ট মূল ভূমিকা পালন করে

Pla প্লাজমা এচিং এবং সিভিডি-র মতো উচ্চ-তাপমাত্রার প্রক্রিয়াগুলিতে, ভেটেক সেমিকন্ডাক্টর পোরস ট্যানটালাম কার্বাইড প্রায়শই প্রক্রিয়াজাতকরণ সরঞ্জামগুলির জন্য প্রতিরক্ষামূলক আবরণ হিসাবে ব্যবহৃত হয়। এটি টিএসি লেপের শক্তিশালী জারা প্রতিরোধের এবং এর উচ্চ-তাপমাত্রার স্থিতিশীলতার কারণে। এই বৈশিষ্ট্যগুলি নিশ্চিত করে যে এটি কার্যকরভাবে প্রতিক্রিয়াশীল গ্যাস বা চরম তাপমাত্রার সংস্পর্শে আসা পৃষ্ঠগুলি রক্ষা করে, যার ফলে উচ্চ-তাপমাত্রার প্রক্রিয়াগুলির স্বাভাবিক প্রতিক্রিয়া নিশ্চিত করে।

●  প্রসারণ প্রক্রিয়ায়, ছিদ্রযুক্ত ট্যানটালাম কার্বাইড উচ্চ-তাপমাত্রার প্রক্রিয়াগুলিতে পদার্থের মিশ্রণ রোধ করার জন্য একটি কার্যকর প্রসারণ বাধা হিসাবে কাজ করতে পারে। এই বৈশিষ্ট্যটি প্রায়শই আয়ন ইমপ্লান্টেশন এবং সেমিকন্ডাক্টর ওয়েফারগুলির বিশুদ্ধতা নিয়ন্ত্রণের মতো প্রক্রিয়াগুলিতে ডোপান্টের প্রসারণ নিয়ন্ত্রণ করতে ব্যবহৃত হয়।

● VeTek সেমিকন্ডাক্টর পোরাস ট্যানটালাম কার্বাইডের ছিদ্রযুক্ত কাঠামো সেমিকন্ডাক্টর প্রক্রিয়াকরণ পরিবেশের জন্য খুবই উপযুক্ত যার জন্য সুনির্দিষ্ট গ্যাস প্রবাহ নিয়ন্ত্রণ বা পরিস্রাবণ প্রয়োজন। এই প্রক্রিয়ায়, ছিদ্রযুক্ত TaC প্রধানত গ্যাস পরিস্রাবণ এবং বিতরণের ভূমিকা পালন করে। এর রাসায়নিক নিষ্ক্রিয়তা নিশ্চিত করে যে পরিস্রাবণ প্রক্রিয়া চলাকালীন কোন দূষক প্রবর্তিত হয় না। এটি কার্যকরভাবে প্রক্রিয়াজাত পণ্যের বিশুদ্ধতা নিশ্চিত করে।

VeTek সেমিকন্ডাক্টর সম্পর্কে

চীন পেশাদার হিসাবে ট্যান্টালাম কার্বাইড প্রস্তুতকারক, সরবরাহকারী, কারখানা হিসাবে আমাদের নিজস্ব কারখানা আছে। আপনার অঞ্চলের নির্দিষ্ট চাহিদা পূরণের জন্য আপনার কাস্টমাইজড পরিষেবাদিগুলির প্রয়োজন বা চীনে তৈরি উন্নত এবং টেকসই ছিদ্রযুক্ত ট্যানটালাম কার্বাইড কিনতে চান, আপনি আমাদের একটি বার্তা রাখতে পারেন।

যদি আপনার কোন জিজ্ঞাসা থাকে বা সম্পর্কে অতিরিক্ত বিবরণ প্রয়োজনছিদ্রযুক্ত ট্যানটালাম কার্বাইড、ট্যানটালাম কার্বাইড লেপযুক্ত ছিদ্রযুক্ত গ্রাফাইটএবং অন্যান্যট্যানটালাম কার্বাইড লেপা উপাদান, দয়া করে আমাদের সাথে যোগাযোগ করতে দ্বিধা করবেন না।

☏☏☏মোব/হোয়াটসঅ্যাপ: +86-180 6922 0752

☏☏☏ইমেইল: anny@veteksemi.com