ছিদ্রযুক্ত সিক সিরামিক প্লেট

ছিদ্রযুক্ত সিক সিরামিক প্লেট একটি ছিদ্রযুক্ত কাঠামো সিরামিক উপাদান যা তৈরিসিলিকন কার্বাইডপ্রধান উপাদান হিসাবে এবং একটি বিশেষ সিনটারিং প্রক্রিয়া সঙ্গে মিলিত। এর পোরোসিটি সামঞ্জস্যযোগ্য (সাধারণত 30%-70%), ছিদ্র আকারের বিতরণ অভিন্ন, এটিতে দুর্দান্ত উচ্চ তাপমাত্রা প্রতিরোধের, রাসায়নিক স্থিতিশীলতা এবং দুর্দান্ত গ্যাসের ব্যাপ্তিযোগ্যতা রয়েছে এবং এটি অর্ধপরিবাহী উত্পাদন, রাসায়নিক বাষ্প ডিপোজিশন (সিভিডি), উচ্চ তাপমাত্রার গ্যাস পরিস্রাবণ এবং অন্যান্য ক্ষেত্রে ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়।

এবং ছিদ্রযুক্ত সিক সিরামিক প্লেট সম্পর্কে আরও তথ্যের জন্য, দয়া করে এই ব্লগটি দেখুন।

ছিদ্রযুক্ত সিক সিরামিক ডিস্কদুর্দান্ত শারীরিক বৈশিষ্ট্য

● চরম উচ্চ তাপমাত্রা প্রতিরোধের:

সিক সিরামিকগুলির গলনাঙ্কটি 2700 ডিগ্রি সেন্টিগ্রেডের চেয়ে বেশি, এবং এটি এখনও 1600 ডিগ্রি সেন্টিগ্রেডের উপরে কাঠামোগত স্থিতিশীলতা বজায় রাখতে পারে, যা traditional তিহ্যবাহী অ্যালুমিনা সিরামিকগুলি (প্রায় 2000 ডিগ্রি সেন্টিগ্রেড) ছাড়িয়ে যায়, বিশেষত সেমিকন্ডাক্টর উচ্চ তাপমাত্রা প্রক্রিয়াগুলির জন্য উপযুক্ত।

● দুর্দান্ত তাপ পরিচালনার পারফরম্যান্স:

✔ উচ্চ তাপীয় পরিবাহিতা: ঘন এসআইসির তাপীয় পরিবাহিতা প্রায় 120 ডাব্লু/(এম · কে)। যদিও ছিদ্রযুক্ত কাঠামোটি তাপীয় পরিবাহিতা কিছুটা হ্রাস করে, এটি এখনও বেশিরভাগ সিরামিকের তুলনায় উল্লেখযোগ্যভাবে ভাল এবং দক্ষ তাপ অপচয়কে সমর্থন করে।

✔ কম তাপীয় প্রসারণ সহগ (4.0 × 10⁻⁶/° C): তাপীয় চাপের কারণে ডিভাইস ব্যর্থতা এড়ানো, উচ্চ তাপমাত্রায় প্রায় কোনও বিকৃতি নেই।

● দুর্দান্ত রাসায়নিক স্থিতিশীলতা

অ্যাসিড এবং ক্ষার জারা প্রতিরোধের (বিশেষত এইচএফ পরিবেশে অসামান্য), উচ্চ তাপমাত্রা জারণ প্রতিরোধের, এচিং এবং পরিষ্কারের মতো কঠোর পরিবেশের জন্য উপযুক্ত।

● অসামান্য যান্ত্রিক বৈশিষ্ট্য

✔ উচ্চ কঠোরতা (মোহস কঠোরতা 9.2, ডায়মন্ডের পরে দ্বিতীয়), শক্তিশালী পরিধান প্রতিরোধের।

✔ নমন শক্তি 300-400 এমপিএতে পৌঁছতে পারে এবং ছিদ্র কাঠামোর নকশা হালকা ওজন এবং যান্ত্রিক শক্তি উভয়ই বিবেচনা করে।

● কার্যকরী ছিদ্রযুক্ত কাঠামো

✔ উচ্চ নির্দিষ্ট পৃষ্ঠের অঞ্চল: প্রতিক্রিয়া গ্যাস বিতরণ প্লেট হিসাবে উপযুক্ত গ্যাসের প্রসারণ দক্ষতা বাড়ান।

✔ নিয়ন্ত্রণযোগ্য পোরোসিটি: সিভিডি প্রক্রিয়াতে অভিন্ন ফিল্ম গঠনের মতো তরল অনুপ্রবেশ এবং পরিস্রাবণ কর্মক্ষমতা অনুকূলিত করুন।

অর্ধপরিবাহী উত্পাদন নির্দিষ্ট ভূমিকা

● উচ্চ তাপমাত্রা প্রক্রিয়া সমর্থন এবং তাপ নিরোধক

ওয়েফার সাপোর্ট প্লেট হিসাবে, এটি উচ্চ তাপমাত্রার সরঞ্জামগুলিতে (> 1200 ° C) যেমন প্রসারণ চুল্লি এবং অ্যানিলিং চুল্লিগুলিতে ধাতব দূষণ এড়াতে ব্যবহৃত হয়।

ছিদ্রযুক্ত কাঠামোর নিরোধক এবং সমর্থন উভয় ফাংশন রয়েছে, তাপ হ্রাস হ্রাস করে।

● অভিন্ন গ্যাস বিতরণ এবং প্রতিক্রিয়া নিয়ন্ত্রণ

রাসায়নিক বাষ্প ডিপোজিশন (সিভিডি) সরঞ্জামগুলিতে, একটি গ্যাস বিতরণ প্লেট হিসাবে, ছিদ্রগুলি পাতলা ফিল্ম জমার অভিন্নতার উন্নতি করতে সমানভাবে প্রতিক্রিয়াশীল গ্যাসগুলি (যেমন সিআইএইচ, এনএইচ₃) পরিবহনের জন্য ব্যবহৃত হয়।

শুকনো এচিংয়ে, ছিদ্রযুক্ত কাঠামো প্লাজমা বিতরণকে অনুকূল করে এবং এচিংয়ের নির্ভুলতা উন্নত করে।

● ইলেক্ট্রোস্ট্যাটিক চক (ইএসসি) মূল উপাদানগুলি

ছিদ্রযুক্ত এসআইসি ইলেক্ট্রোস্ট্যাটিক চক সাবস্ট্রেট হিসাবে ব্যবহৃত হয়, যা মাইক্রোপোরের মাধ্যমে ভ্যাকুয়াম শোষণ অর্জন করে, সঠিকভাবে ওয়েফারকে ঠিক করে দেয় এবং প্লাজমা বোমা হামলার বিরুদ্ধে প্রতিরোধী এবং দীর্ঘ পরিষেবা জীবন রয়েছে।

Ros জারা-প্রতিরোধী উপাদান

ভেজা এচিং এবং পরিষ্কারের সরঞ্জামগুলির গহ্বরের আস্তরণের জন্য ব্যবহৃত, এটি শক্তিশালী অ্যাসিড (যেমন হেসো, হ্নো) এবং শক্তিশালী ক্ষার (যেমন কেওএইচ) দ্বারা জারা প্রতিরোধ করে।

● তাপ ক্ষেত্রের অভিন্নতা নিয়ন্ত্রণ

একক স্ফটিক সিলিকন বৃদ্ধির চুল্লিগুলিতে (যেমন সিজোক্রালস্কি পদ্ধতিতে) তাপ ield াল বা সমর্থন হিসাবে, এর উচ্চ তাপীয় স্থায়িত্ব অভিন্ন তাপীয় ক্ষেত্রগুলি বজায় রাখতে এবং জালির ত্রুটিগুলি হ্রাস করতে ব্যবহৃত হয়।

● পরিস্রাবণ এবং পরিশোধন

ছিদ্রযুক্ত কাঠামোটি কণা দূষণকারীদের বাধা দিতে পারে এবং প্রক্রিয়া পরিষ্কার-পরিচ্ছন্নতা নিশ্চিত করতে অতি-খাঁটি গ্যাস/তরল বিতরণ ব্যবস্থায় ব্যবহৃত হয়।

Traditional তিহ্যবাহী উপকরণগুলির উপর সুবিধা