সিক এজ রিং

সেমিকন্ডাক্টর ম্যানুফ্যাকচারিংয়ের ক্ষেত্রে, সিক এজ রিংগুলি, ওয়েফার প্রসেসিং সরঞ্জামগুলির মূল উপাদান হিসাবে, তাদের উপাদানগুলির সাথে শিল্পের প্রাকৃতিক দৃশ্যে বিপ্লব ঘটাচ্ছে। সিলিকন কার্বাইড একক স্ফটিক দিয়ে তৈরি এই নির্ভুলতা উপাদানটির মান কেবল তার উচ্চ প্রযুক্তির সামগ্রীতেই নয়, ফলন এবং অপারেশন ব্যয়ের অপ্টিমাইজেশনের উল্লেখযোগ্য উন্নতির মধ্যেও রয়েছে যা এটি চিপ নির্মাতাদের কাছে আনতে পারে।

Sic প্রান্ত রিং কাঠামোগত বৈশিষ্ট্য

সিলিকন কার্বাইড এজ রিংগুলি সেমিকন্ডাক্টর এচিং সরঞ্জামগুলিতে মূল উপভোগযোগ্য উপাদান এবং রাসায়নিক বাষ্প ডিপোজিশন (সিভিডি) পদ্ধতি দ্বারা প্রস্তুত উচ্চ-বিশুদ্ধতা সিলিকন কার্বাইড উপকরণ দিয়ে তৈরি। এর বার্ষিক কাঠামোর ব্যাস সাধারণত 200-450 মিমি হয় এবং বেধটি 5-15 মিমি মধ্যে নিয়ন্ত্রণ করা হয়, নিম্নলিখিত বৈশিষ্ট্যগুলি বৈশিষ্ট্যযুক্ত:

1. এক্সট্রিম সহনশীলতা: 1500 ℃ এর একটি উচ্চ-তাপমাত্রার পরিবেশ সহ্য করতে পারে

2। প্লাজমা স্থায়িত্ব: ডাইলেট্রিক ধ্রুবক 9.7, ব্রেকডাউন ভোল্টেজ 3 এমভি/সেমি

3 ... জ্যামিতিক নির্ভুলতা: বৃত্তাকার ত্রুটি ≤0.05 মিমি, পৃষ্ঠের রুক্ষতা আরএ <0.2μm

উত্পাদন প্রক্রিয়াতে ব্রেকথ্রু

আধুনিক প্রস্তুতি প্রক্রিয়া একটি তিন-পর্যায়ের পদ্ধতি গ্রহণ করে:

1। ম্যাট্রিক্স গঠন: আইসোস্ট্যাটিক প্রেসিং ফর্মিং অভিন্ন ঘনত্ব নিশ্চিত করে

2। উচ্চ-তাপমাত্রা সিনটারিং: 2100 ℃ এ জড় বায়ুমণ্ডলে ঘনত্বের চিকিত্সা

3। পৃষ্ঠের পরিবর্তন: ন্যানোস্কেল প্রতিরক্ষামূলক স্তরগুলি প্রতিক্রিয়াশীল আয়ন এচিং (আরআইই) এর মাধ্যমে গঠিত হয়। সর্বশেষ গবেষণাটি দেখায় যে সিলিকন কার্বাইড এজ রিংগুলির পরিষেবা জীবন 3% বোরনের সাথে ডোপড করা 40% বৃদ্ধি পেয়েছে এবং ওয়েফার দূষণের হার 0.01ppm স্তরে হ্রাস করা হয়েছে

অ্যাপ্লিকেশন পরিস্থিতি

এটি 5nm এর নীচে প্রক্রিয়াগুলিতে অপরিবর্তনীয়তা দেখায়:

2। এচিং ইউনিফর্মিটি: এটি ওয়েফার প্রান্তে ± 1.5% এর একটি এচিং রেট বিচ্যুতি বজায় রাখতে পারে

3। দূষণ নিয়ন্ত্রণ: এটি traditional তিহ্যবাহী কোয়ার্টজ উপকরণগুলির তুলনায় ধাতব দূষণকে 92% হ্রাস করে

4 ... রক্ষণাবেক্ষণ চক্র: এটি সিএফ 4/ও 2 প্লাজমাতে 1500 ঘন্টা অবিচ্ছিন্নভাবে পরিচালনা করতে পারে

ভিটেকসেমিকন এসআইসি এজ রিংগুলির ঘরোয়া উত্পাদনে একটি অগ্রগতি অর্জন করেছে, যা ব্যয় ব্যয় প্রচুর পরিমাণে সঞ্চয় করতে পারে। যে কোনও সময় আমাদের সাথে যোগাযোগ করতে স্বাগতম!