CVD TaC প্রলিপ্ত সাসেপ্টর

পণ্যের সংজ্ঞা এবং রচনা

VETEK CVD TaC প্রলিপ্ত সাসেপ্টর হল একটি হাই-এন্ড ওয়েফার ক্যারিয়ার উপাদান যা বিশেষভাবে তৃতীয় প্রজন্মের সেমিকন্ডাক্টর (SiC, GaN, AlN) এপিটাক্সিয়াল প্রক্রিয়াকরণের জন্য ব্যবহৃত হয়। এই পণ্য দুটি উচ্চ-কর্মক্ষমতা উপকরণ শারীরিক সুবিধার সমন্বয়:

উচ্চ-বিশুদ্ধ গ্রাফাইট সাবস্ট্রেট: সাবস্ট্রেটের উচ্চতর কাঠামোগত শক্তি, উচ্চ ঘনত্ব এবং তাপ প্রক্রিয়াকরণের স্থায়িত্ব নিশ্চিত করতে একটি আইসোস্ট্যাটিক প্রেসিং ছাঁচনির্মাণ প্রক্রিয়া ব্যবহার করে।

CVD TaC আবরণ: একটি ঘন, চাপ-মুক্ত ট্যানটালাম কার্বাইড (TaC) প্রতিরক্ষামূলক স্তর উন্নত রাসায়নিক বাষ্প জমা (CVD) প্রযুক্তির মাধ্যমে গ্রাফাইটের পৃষ্ঠে জন্মানো হয়।

মূল প্রযুক্তিগত সুবিধা: অসাধারণ চরম পরিবেশ অভিযোজনযোগ্যতা

MOCVD প্রক্রিয়ায়, TaC আবরণ শুধুমাত্র একটি শারীরিক প্রতিরক্ষামূলক স্তর নয় বরং প্রক্রিয়া পুনরাবৃত্তিযোগ্যতা নিশ্চিত করার মূলও:

চরম উচ্চ তাপমাত্রা সহনশীলতা: TaC এর একটি গলনাঙ্ক রয়েছে 3880°C পর্যন্ত, যা 1600°C এর উপরে অতি-উচ্চ তাপমাত্রার এপিটাক্সিয়াল প্রক্রিয়াতেও চমৎকার আকৃতির স্থিতিশীলতা বজায় রাখে।

চমৎকার জারা প্রতিরোধের: NH₃(অ্যামোনিয়া) বা H₂(হাইড্রোজেন) ধারণকারী শক্তিশালী হ্রাসকারী পরিবেশে, TaC এর ক্ষয় হার অত্যন্ত কম, কার্যকরভাবে সাবস্ট্রেটের ক্ষতি এবং অপরিচ্ছন্নতা বৃষ্টিপাত প্রতিরোধ করে।

অতি-উচ্চ বিশুদ্ধতা গ্যারান্টি: আবরণ বিশুদ্ধতা হিসাবে উচ্চ 99.9995%. এর ঘন গঠন সম্পূর্ণরূপে গ্রাফাইট মাইক্রোপোরগুলিকে সিল করে দেয়, নিশ্চিত করে যে এপিটাক্সিয়াল ফিল্মটি অত্যন্ত কম অপরিষ্কার স্তরে পৌঁছেছে।

সুনির্দিষ্ট তাপীয় ক্ষেত্র বিতরণ: VETEK-এর অপ্টিমাইজ করা আবরণ নিয়ন্ত্রণ প্রযুক্তি নিশ্চিত করে যে সাসেপ্টর পৃষ্ঠের তাপমাত্রার পার্থক্য ±2°C এর মধ্যে নিয়ন্ত্রিত হয়, উল্লেখযোগ্যভাবে ওয়েফার এপিটাক্সিয়াল স্তরের বেধ এবং তরঙ্গদৈর্ঘ্যের সামঞ্জস্যকে উন্নত করে।

প্রযুক্তিগত পরামিতি

একটি মাইক্রোস্কোপিক ক্রস-সেকশনে ট্যানটালাম কার্বাইড (TaC) আবরণ:

মূল অ্যাপ্লিকেশন ক্ষেত্র

SiC (সিলিকন কার্বাইড) এপিটাক্সিয়াল বৃদ্ধি: 6-ইঞ্চি, 8-ইঞ্চি, এবং বড় আকারের SiC পাওয়ার ডিভাইসগুলির উত্পাদন সমর্থন করে।

GaN (গ্যালিয়াম নাইট্রাইড) ভিত্তিক ডিভাইস: উচ্চ-উজ্জ্বল LED, HEMT পাওয়ার ডিভাইস এবং RF চিপগুলির জন্য MOCVD প্রক্রিয়াগুলিতে ব্যবহৃত হয়।

AlN (অ্যালুমিনিয়াম নাইট্রাইড) এবং UVC বৃদ্ধি: অতি-প্রশস্ত ব্যান্ডগ্যাপ উপকরণ যেমন গভীর UV LEDs-এর জন্য চরম উচ্চ-তাপমাত্রা (1400°C+) ক্যারিয়ার সমাধান প্রদান করে।

কাস্টমাইজড গবেষণা সমর্থন: বিভিন্ন অনিয়মিত অংশ এবং মাল্টি-হোল ডিস্কের জন্য গবেষণা ইনস্টিটিউটের নির্ভুল কাস্টমাইজেশন প্রয়োজনের সাথে খাপ খায়।

সামঞ্জস্যপূর্ণ মডেল এবং কাস্টমাইজেশন পরিষেবা

VETEK সুনির্দিষ্ট যান্ত্রিক প্রক্রিয়াকরণ এবং আবরণ ক্ষমতার অধিকারী, পুরোপুরি বিশ্বব্যাপী মূলধারার MOCVD সরঞ্জামের সাথে খাপ খাইয়ে নেয়:

AIXTRON: বিভিন্ন গ্রহের ঘূর্ণন ডিস্ক এবং ঘাঁটি সমর্থন করে।

ভিকো: K465i, প্রোপেল এবং অন্যান্য উল্লম্ব সাসেপ্টর সিরিজ সমর্থন করে।

AMEC এবং অন্যান্য: সম্পূর্ণরূপে সামঞ্জস্যপূর্ণ প্রতিস্থাপন অংশ বা আপগ্রেড সমাধান প্রদান করে.