এসআইসি লেপ সংগ্রাহক কেন্দ্র

ভেটেক সেমিকন্ডাক্টর এসআইসি লেপ সংগ্রাহক কেন্দ্রটি সেমিকন্ডুকোর ইপিআই প্রক্রিয়া উত্পাদনে গুরুত্বপূর্ণ ভূমিকা পালন করে। এটি একটি এপিটাক্সিয়াল প্রতিক্রিয়া চেম্বারে গ্যাস বিতরণ এবং নিয়ন্ত্রণের জন্য ব্যবহৃত অন্যতম মূল উপাদান।সিক লেপএবংটিএসি লেপআমাদের কারখানায়।

এসআইসি লেপ সংগ্রাহক কেন্দ্রের ভূমিকা নিম্নরূপ:

● গ্যাস বিতরণ: এসআইসি লেপ সংগ্রাহক কেন্দ্রটি এপিট্যাক্সিয়াল প্রতিক্রিয়া চেম্বারে বিভিন্ন গ্যাস প্রবর্তন করতে ব্যবহৃত হয়। এটিতে একাধিক ইনলেট এবং আউটলেট রয়েছে যা নির্দিষ্ট এপিট্যাক্সিয়াল বৃদ্ধির প্রয়োজনীয়তাগুলি পূরণ করতে কাঙ্ক্ষিত স্থানে বিভিন্ন গ্যাস বিতরণ করতে পারে।

● গ্যাস নিয়ন্ত্রণ করুন: এসআইসি লেপ সংগ্রাহক কেন্দ্র ভালভ এবং প্রবাহ নিয়ন্ত্রণ ডিভাইসের মাধ্যমে প্রতিটি গ্যাসের সুনির্দিষ্ট নিয়ন্ত্রণ অর্জন করে। ফিল্মের গুণমান এবং ধারাবাহিকতা নিশ্চিত করে কাঙ্ক্ষিত গ্যাসের ঘনত্ব এবং প্রবাহের হার অর্জনের জন্য এপিট্যাক্সিয়াল বৃদ্ধি প্রক্রিয়াটির সাফল্যের জন্য এই সুনির্দিষ্ট গ্যাস নিয়ন্ত্রণ অপরিহার্য।

● অভিন্নতা: কেন্দ্রীয় গ্যাস সংগ্রহের রিংয়ের নকশা এবং বিন্যাস গ্যাসের অভিন্ন বিতরণ অর্জনে সহায়তা করে। যুক্তিসঙ্গত গ্যাস প্রবাহের পথ এবং বিতরণ মোডের মাধ্যমে, গ্যাসটি এপিট্যাক্সিয়াল প্রতিক্রিয়া চেম্বারে সমানভাবে মিশ্রিত করা হয়, যাতে ফিল্মের অভিন্ন বৃদ্ধি অর্জন করতে পারে।

এপিট্যাক্সিয়াল পণ্য তৈরিতে, এসআইসি লেপ সংগ্রাহক কেন্দ্র চলচ্চিত্রের গুণমান, বেধ এবং অভিন্নতায় মূল ভূমিকা পালন করে। সঠিক গ্যাস বিতরণ এবং নিয়ন্ত্রণের মাধ্যমে, এসআইসি লেপ সংগ্রাহক কেন্দ্রের স্থায়িত্ব এবং ধারাবাহিকতা নিশ্চিত করতে পারেএপিট্যাক্সিয়াল বৃদ্ধি প্রক্রিয়া, যাতে উচ্চমানের এপিট্যাক্সিয়াল ফিল্মগুলি পাওয়া যায়।

গ্রাফাইট সংগ্রাহক কেন্দ্রের সাথে তুলনা করে, এসআইসি প্রলিপ্ত সংগ্রাহক কেন্দ্রটি তাপীয় পরিবাহিতা, বর্ধিত রাসায়নিক জড়তা এবং উচ্চতর জারা প্রতিরোধের উন্নত। সিলিকন কার্বাইড লেপ গ্রাফাইট উপাদানের তাপীয় পরিচালনার সক্ষমতা উল্লেখযোগ্যভাবে বাড়িয়ে তোলে, যার ফলে তাপমাত্রার অভিন্নতা এবং এপিট্যাক্সিয়াল প্রক্রিয়াগুলিতে ধারাবাহিক ফিল্ম বৃদ্ধি ঘটে। অতিরিক্তভাবে, আবরণ একটি প্রতিরক্ষামূলক স্তর সরবরাহ করে যা গ্রাফাইট উপাদানগুলির জীবনকাল প্রসারিত করে রাসায়নিক জারা প্রতিরোধ করে। সামগ্রিকভাবে,সিলিকন কার্বাইড-প্রলিপ্তগ্রাফাইট উপাদানগুলি এপিট্যাক্সিয়াল প্রক্রিয়াগুলিতে বর্ধিত স্থায়িত্ব এবং উচ্চ-মানের ফিল্ম বৃদ্ধি নিশ্চিত করে উচ্চতর তাপীয় পরিবাহিতা, রাসায়নিক জড়তা এবং জারা প্রতিরোধের প্রস্তাব দেয়।

সিভিডি সিক ফিল্ম স্ফটিক কাঠামো:

সিভিডি এসআইসি লেপের প্রাথমিক শারীরিক বৈশিষ্ট্য

এটি অর্ধপরিবাহীএসআইসি লেপ সংগ্রাহক কেন্দ্রউত্পাদন দোকান