পণ্য
পণ্য

ট্যানটালাম কার্বাইড লেপ

VeTek সেমিকন্ডাক্টর অর্ধপরিবাহী শিল্পের জন্য ট্যানটালাম কার্বাইড আবরণ উপকরণগুলির একটি নেতৃস্থানীয় প্রস্তুতকারক। আমাদের প্রধান পণ্য অফারগুলির মধ্যে রয়েছে CVD ট্যানটালাম কার্বাইড লেপ অংশ, SiC ক্রিস্টাল বৃদ্ধি বা সেমিকন্ডাক্টর এপিটাক্সি প্রক্রিয়ার জন্য sintered TaC আবরণ অংশ। ISO9001 পাস করা, VeTek সেমিকন্ডাক্টরের মানের উপর ভাল নিয়ন্ত্রণ রয়েছে। VeTek সেমিকন্ডাক্টর চলমান গবেষণা এবং পুনরাবৃত্তিমূলক প্রযুক্তির বিকাশের মাধ্যমে ট্যানটালাম কার্বাইড লেপ শিল্পে উদ্ভাবক হওয়ার জন্য নিবেদিত।


প্রধান পণ্য হলTaC প্রলিপ্ত গাইড রিং, CVD TaC প্রলিপ্ত তিন-পাপড়ি গাইড রিং, ট্যানটালাম কার্বাইড TaC প্রলিপ্ত হাফমুন, CVD TaC আবরণ গ্রহের SiC এপিটাক্সিয়াল সাসেপ্টর, ট্যানটালাম কার্বাইড লেপ রিং, ট্যানটালাম কার্বাইড প্রলিপ্ত ছিদ্রযুক্ত গ্রাফাইট, TaC আবরণ ঘূর্ণন সাসেপ্টর, ট্যানটালাম কার্বাইড রিং, TaC আবরণ ঘূর্ণন প্লেট, TaC প্রলিপ্ত ওয়েফার সাসেপ্টর, TaC প্রলিপ্ত ডিফ্লেক্টর রিং, CVD TaC আবরণ কভার, TaC প্রলিপ্ত চকইত্যাদি, বিশুদ্ধতা 5ppm এর নিচে, গ্রাহকের প্রয়োজনীয়তা পূরণ করতে পারে।


TaC আবরণ গ্রাফাইট একটি মালিকানাধীন রাসায়নিক বাষ্প জমা (CVD) প্রক্রিয়ার মাধ্যমে একটি উচ্চ-বিশুদ্ধতা গ্রাফাইট সাবস্ট্রেটের পৃষ্ঠকে ট্যানটালাম কার্বাইডের সূক্ষ্ম স্তর দিয়ে আবরণ করে তৈরি করা হয়৷ সুবিধাটি নীচের ছবিতে দেখানো হয়েছে:


Excellent properties of TaC coating graphite


ট্যানটালাম কার্বাইড (TaC) আবরণটি 3880°C পর্যন্ত উচ্চ গলনাঙ্ক, চমৎকার যান্ত্রিক শক্তি, কঠোরতা এবং তাপীয় শক প্রতিরোধের কারণে মনোযোগ আকর্ষণ করেছে, এটি উচ্চ তাপমাত্রার প্রয়োজনীয়তা সহ যৌগিক অর্ধপরিবাহী এপিটাক্সি প্রক্রিয়াগুলির একটি আকর্ষণীয় বিকল্প হিসাবে তৈরি করেছে, যেমন Aixtron MOCVD সিস্টেম এবং LPE SiC এপিটাক্সি প্রসেস। এছাড়াও এর ব্যাপক প্রয়োগ রয়েছে PVT পদ্ধতি SiC স্ফটিক বৃদ্ধি প্রক্রিয়া।


মূল বৈশিষ্ট্য:

 ●তাপমাত্রা স্থিতিশীলতা

 ●অতি উচ্চ বিশুদ্ধতা

 ●H2, NH3, SiH4, Si এর প্রতিরোধ

 ●তাপীয় স্টক প্রতিরোধের

 ●গ্রাফাইটের শক্তিশালী আনুগত্য

 ●কনফর্মাল লেপ কভারেজ

 750 মিমি ব্যাস পর্যন্ত আকার (চীনের একমাত্র প্রস্তুতকারক এই আকারে পৌঁছায়)


অ্যাপ্লিকেশন:

 ●ওয়েফার ক্যারিয়ার

 ● ইন্ডাকটিভ হিটিং সাসেপ্টর

 ● প্রতিরোধী গরম করার উপাদান

 ●স্যাটেলাইট ডিস্ক

 ●ঝরনা মাথা

 ●গাইড রিং

 ●এলইডি ইপি রিসিভার

 ●ইনজেকশন অগ্রভাগ

 ●মাস্কিং রিং

 ● তাপ ঢাল


একটি মাইক্রোস্কোপিক ক্রস-সেকশনে ট্যানটালাম কার্বাইড (TaC) আবরণ:


the microscopic cross-section of Tantalum carbide (TaC) coating


VeTek সেমিকন্ডাক্টর ট্যানটালাম কার্বাইড আবরণের প্যারামিটার:

TaC আবরণের শারীরিক বৈশিষ্ট্য
ঘনত্ব 14.3 (g/cm³)
নির্দিষ্ট নির্গততা 0.3
তাপ সম্প্রসারণ সহগ 6.3 10-6/কে
কঠোরতা (HK) 2000 HK
প্রতিরোধ 1×10-5ওম*সেমি
তাপীয় স্থিতিশীলতা <2500℃
গ্রাফাইটের আকার পরিবর্তন -10~-20um
আবরণ বেধ ≥20um সাধারণ মান (35um±10um)


TaC আবরণ EDX ডেটা

EDX data of TaC coating


TaC আবরণ স্ফটিক গঠন তথ্য:

উপাদান পারমাণবিক শতাংশ
পন্ডিত 1 পন্ডিত 2 পন্ডিত 3 গড়
সি কে 52.10 57.41 52.37 53.96
এম 47.90 42.59 47.63 46.04


View as  
 
TaC আবরণ টিউব

TaC আবরণ টিউব

ভেটেক সেমিকন্ডাক্টরের টিএসি লেপ টিউব সিলিকন কার্বাইড একক স্ফটিকের সফল বৃদ্ধির জন্য একটি মূল উপাদান। এর উচ্চ তাপমাত্রা প্রতিরোধের, রাসায়নিক জড়তা এবং দুর্দান্ত পারফরম্যান্স সহ, যা ধারাবাহিক ফলাফল সহ উচ্চ-মানের স্ফটিকগুলির উত্পাদন নিশ্চিত করে। আপনার প্রাইভেট পদ্ধতিটি সিক স্ফটিক বৃদ্ধি প্রক্রিয়া বাড়ানোর জন্য আমাদের উদ্ভাবনী সমাধানগুলিকে বিশ্বাস করুন এবং দুর্দান্ত ফলাফলগুলি অর্জন করুন us আমাদের তদন্ত করতে স্বাগত।
টিএসি লেপ অতিরিক্ত অংশ

টিএসি লেপ অতিরিক্ত অংশ

টিএসি লেপ বর্তমানে মূলত সিলিকন কার্বাইড সিঙ্গল ক্রিস্টাল গ্রোথ (পিভিটি পদ্ধতি), এপিট্যাক্সিয়াল ডিস্ক (সিলিকন কার্বাইড এপিট্যাক্সি, এলইডি এপিট্যাক্সি সহ) ইত্যাদি প্রক্রিয়াগুলিতে ব্যবহৃত হয়, ইত্যাদি ট্যাক লেপ প্লেটের ভাল দীর্ঘমেয়াদী স্থায়িত্বের সাথে মিলিত, ভিটসেমিকনের ট্যাক কোটিং প্লেট টিএসি কোটিংয়ের জন্য বেড়মার্ক হয়ে উঠেছে। আমরা আপনাকে আমাদের দীর্ঘমেয়াদী অংশীদার হওয়ার অপেক্ষায় রয়েছি।
ইপিআই রিসিভারে গা

ইপিআই রিসিভারে গা

এসআইসি এপিআই সংজ্ঞাবহ গ্যান তার দুর্দান্ত তাপ পরিবাহিতা, উচ্চ তাপমাত্রা প্রক্রিয়াজাতকরণ ক্ষমতা এবং রাসায়নিক স্থিতিশীলতার মাধ্যমে সেমিকন্ডাক্টর প্রসেসিংয়ে গুরুত্বপূর্ণ ভূমিকা পালন করে এবং গাএন এপিটাক্সিয়াল বৃদ্ধি প্রক্রিয়াটির উচ্চ দক্ষতা এবং উপাদানগত গুণমান নিশ্চিত করে। ভেটেক সেমিকন্ডাক্টর হ'ল এসআইসি এপিআই সংবেদনশীলের উপর জিএএন এর চীন পেশাদার নির্মাতা, আমরা আন্তরিকভাবে আপনার আরও পরামর্শের অপেক্ষায় রয়েছি।
সিভিডি টিএসি লেপ ক্যারিয়ার

সিভিডি টিএসি লেপ ক্যারিয়ার

সিভিডি টিএসি লেপ ক্যারিয়ারটি মূলত সেমিকন্ডাক্টর ম্যানুফ্যাকচারিংয়ের এপিট্যাক্সিয়াল প্রক্রিয়াটির জন্য ডিজাইন করা হয়েছে। সিভিডি টিএসি লেপ ক্যারিয়ারের অতি-উচ্চ গলনাঙ্ক, দুর্দান্ত জারা প্রতিরোধের এবং অসামান্য তাপীয় স্থায়িত্বটি সেমিকন্ডাক্টর এপিট্যাক্সিয়াল প্রক্রিয়াতে এই পণ্যটির অপরিহার্যতা নির্ধারণ করে। আপনার আরও তদন্ত স্বাগতম।
TaC প্রলিপ্ত গ্রাফাইট রিসিভার

TaC প্রলিপ্ত গ্রাফাইট রিসিভার

ভেটেক সেমিকন্ডাক্টরের টিএসি লেপা গ্রাফাইট সংজ্ঞাবহ গ্রাফাইট অংশগুলির পৃষ্ঠের ট্যানটালাম কার্বাইড লেপ প্রস্তুত করতে রাসায়নিক বাষ্প ডিপোজিশন (সিভিডি) পদ্ধতি ব্যবহার করে। এই প্রক্রিয়াটি সর্বাধিক পরিপক্ক এবং সেরা আবরণের বৈশিষ্ট্য রয়েছে। টিএসি লেপযুক্ত গ্রাফাইট সংজ্ঞাবহ গ্রাফাইট উপাদানগুলির পরিষেবা জীবনকে প্রসারিত করতে পারে, গ্রাফাইট অমেধ্যের স্থানান্তরকে বাধা দিতে পারে এবং এপিট্যাক্সির গুণমান নিশ্চিত করতে পারে e আমরা আপনার তদন্তের অপেক্ষায় রয়েছি।
টিএসি লেপ সাবসার

টিএসি লেপ সাবসার

ভেটেক সেমিকন্ডাক্টর টিএসি লেপ সংবেদককে তার ব্যতিক্রমী টিএসি লেপ সহ উপস্থাপন করে, এই সংবেদনশীলটি প্রচলিত সমাধানগুলি থেকে পৃথক করে এমন অনেকগুলি সুবিধা দেয় যা ভেটেক সেমিকন্ডাক্টর থেকে টিএসি লেপ সংকেতকারীকে সামঞ্জস্যতা এবং দক্ষ ক্রিয়াকলাপের গ্যারান্টির গ্যারান্টির সাথে একত্রিত করে। এর নির্ভরযোগ্য পারফরম্যান্স এবং উচ্চ-মানের টিএসি লেপ ধারাবাহিকভাবে এসআইসি এপিট্যাক্সি প্রক্রিয়াগুলিতে ব্যতিক্রমী ফলাফল সরবরাহ করে e আমরা প্রতিযোগিতামূলক মূল্যে মানসম্পন্ন পণ্য সরবরাহ করতে প্রতিশ্রুতিবদ্ধ এবং চীনে আপনার দীর্ঘমেয়াদী অংশীদার হওয়ার প্রত্যাশায় রয়েছি।
চীনে একজন পেশাদার ট্যানটালাম কার্বাইড লেপ প্রস্তুতকারক এবং সরবরাহকারী হিসাবে, আমাদের নিজস্ব কারখানা রয়েছে। আপনার অঞ্চলের নির্দিষ্ট চাহিদা পূরণের জন্য আপনার কাস্টমাইজড পরিষেবাদিগুলির প্রয়োজন বা চীনে তৈরি উন্নত এবং টেকসই ট্যানটালাম কার্বাইড লেপ কিনতে চান, আপনি আমাদের একটি বার্তা রাখতে পারেন।
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept