MOCVD প্রযুক্তি

VeTek সেমিকন্ডাক্টরের MOCVD প্রযুক্তির খুচরা যন্ত্রাংশে সুবিধা এবং অভিজ্ঞতা রয়েছে।

MOCVD, মেটাল-অর্গানিক কেমিক্যাল ভ্যাপার ডিপোজিশন (ধাতু-জৈব রাসায়নিক বাষ্প জমা) এর পুরো নামকে ধাতু-জৈব বাষ্প ফেজ এপিটাক্সিও বলা যেতে পারে। অর্গানোমেটালিক যৌগ হল ধাতু-কার্বন বন্ধন সহ যৌগের একটি শ্রেণি। এই যৌগগুলিতে একটি ধাতু এবং একটি কার্বন পরমাণুর মধ্যে অন্তত একটি রাসায়নিক বন্ধন থাকে। ধাতব-জৈব যৌগগুলি প্রায়শই পূর্বসূরি হিসাবে ব্যবহৃত হয় এবং বিভিন্ন জমা কৌশলের মাধ্যমে সাবস্ট্রেটের উপর পাতলা ফিল্ম বা ন্যানোস্ট্রাকচার তৈরি করতে পারে।

ধাতু-জৈব রাসায়নিক বাষ্প জমা (MOCVD প্রযুক্তি) একটি সাধারণ এপিটাক্সিয়াল বৃদ্ধি প্রযুক্তি, MOCVD প্রযুক্তি সেমিকন্ডাক্টর লেজার এবং এলইডি তৈরিতে ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়। বিশেষ করে যখন এলইডি তৈরি করা হয়, এমওসিভিডি গ্যালিয়াম নাইট্রাইড (GaN) এবং সম্পর্কিত উপকরণ উৎপাদনের জন্য একটি মূল প্রযুক্তি।

এপিটাক্সির দুটি প্রধান রূপ রয়েছে: লিকুইড ফেজ এপিটাক্সি (এলপিই) এবং ভ্যাপার ফেজ এপিটাক্সি (ভিপিই)। গ্যাস ফেজ এপিটাক্সিকে আবার ধাতু-জৈব রাসায়নিক বাষ্প জমা (MOCVD) এবং আণবিক বিম এপিটাক্সি (MBE) এ বিভক্ত করা যেতে পারে।

বিদেশী সরঞ্জাম নির্মাতারা প্রধানত Aixtron এবং Veeco দ্বারা প্রতিনিধিত্ব করা হয়। এমওসিভিডি সিস্টেম লেজার, এলইডি, ফটোইলেকট্রিক উপাদান, শক্তি, আরএফ ডিভাইস এবং সৌর কোষ তৈরির জন্য অন্যতম প্রধান সরঞ্জাম।

আমাদের কোম্পানি দ্বারা নির্মিত MOCVD প্রযুক্তির খুচরা যন্ত্রাংশের প্রধান বৈশিষ্ট্য:

1) উচ্চ ঘনত্ব এবং সম্পূর্ণ এনক্যাপসুলেশন: সামগ্রিকভাবে গ্রাফাইট বেসটি একটি উচ্চ তাপমাত্রা এবং ক্ষয়কারী কাজের পরিবেশে রয়েছে, পৃষ্ঠটি অবশ্যই পুরোপুরি আবৃত থাকতে হবে এবং একটি ভাল প্রতিরক্ষামূলক ভূমিকা পালন করার জন্য আবরণটি অবশ্যই ভাল ঘনত্ব থাকতে হবে।

2) ভাল পৃষ্ঠ সমতলতা: যেহেতু একক স্ফটিক বৃদ্ধির জন্য ব্যবহৃত গ্রাফাইট বেসটির জন্য একটি খুব উচ্চ পৃষ্ঠের সমতলতা প্রয়োজন, তাই আবরণ প্রস্তুত করার পরে ভিত্তিটির মূল সমতলতা বজায় রাখা উচিত, অর্থাৎ আবরণ স্তরটি অভিন্ন হতে হবে।

3) ভাল বন্ধন শক্তি: গ্রাফাইট বেস এবং আবরণ উপাদানের মধ্যে তাপ সম্প্রসারণের সহগের পার্থক্য হ্রাস করুন, যা কার্যকরভাবে উভয়ের মধ্যে বন্ধন শক্তি উন্নত করতে পারে এবং উচ্চ এবং নিম্ন তাপমাত্রার তাপ অনুভব করার পরে আবরণটি ক্র্যাক করা সহজ নয়। সাইকেল।

4) উচ্চ তাপ পরিবাহিতা: উচ্চ মানের চিপ বৃদ্ধির জন্য দ্রুত এবং অভিন্ন তাপ প্রদানের জন্য গ্রাফাইট বেস প্রয়োজন, তাই আবরণ উপাদানের উচ্চ তাপ পরিবাহিতা থাকা উচিত।

5) উচ্চ গলনাঙ্ক, উচ্চ তাপমাত্রা অক্সিডেশন প্রতিরোধের, জারা প্রতিরোধের: আবরণ উচ্চ তাপমাত্রা এবং ক্ষয়কারী কাজের পরিবেশে স্থিরভাবে কাজ করতে সক্ষম হওয়া উচিত।

4 ইঞ্চি সাবস্ট্রেট রাখুন
ক্রমবর্ধমান LED জন্য নীল-সবুজ এপিটাক্সি
প্রতিক্রিয়া চেম্বারে রাখা
ওয়েফারের সাথে সরাসরি যোগাযোগ 4 ইঞ্চি সাবস্ট্রেট রাখুন
UV LED এপিটাক্সিয়াল ফিল্ম বাড়াতে ব্যবহৃত হয়
প্রতিক্রিয়া চেম্বারে রাখা
ওয়েফারের সাথে সরাসরি যোগাযোগ Veeco K868/Veeco K700 মেশিন
সাদা LED এপিটাক্সি/নীল-সবুজ LED এপিটাক্সি VEECO সরঞ্জাম ব্যবহার করা হয়
MOCVD এপিটাক্সির জন্য
SiC আবরণ সাসেপ্টর Aixtron TS সরঞ্জাম
গভীর আল্ট্রাভায়োলেট এপিটাক্সি
2-ইঞ্চি সাবস্ট্রেট ভিকো সরঞ্জাম
লাল-হলুদ এলইডি এপিটাক্সি
4-ইঞ্চি ওয়েফার সাবস্ট্রেট TaC প্রলিপ্ত সাসেপ্টর
(SiC Epi/ UV LED রিসিভার) SiC প্রলিপ্ত সাসেপ্টর
(ALD/ Si Epi/ LED MOCVD সাসেপ্টর)