পণ্য

ওয়েফার চাঙ্ক সেমিকন্ডাক্টর প্রক্রিয়ায় একটি ওয়েফার ক্ল্যাম্পিং টুল এবং PVD, CVD, ETCH এবং অন্যান্য প্রক্রিয়াতে ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়। ভেটেক সেমিকন্ডাক্টরের ওয়েফার চক সেমিকন্ডাক্টর উৎপাদনে গুরুত্বপূর্ণ ভূমিকা পালন করে, দ্রুত, উচ্চ-মানের আউটপুট সক্ষম করে। ইন-হাউস ম্যানুফ্যাকচারিং, প্রতিযোগীতামূলক মূল্য এবং শক্তিশালী R&D সমর্থন সহ, ভেটেক সেমিকন্ডাক্টর নির্ভুল উপাদানগুলির জন্য OEM/ODM পরিষেবাগুলিতে পারদর্শী। আপনার অনুসন্ধানের জন্য উন্মুখ।

SiC ওয়েফার বোটটি ওয়েফার বহন করতে ব্যবহৃত হয়, প্রধানত অক্সিডেশন এবং প্রসারণ প্রক্রিয়ার জন্য, তা নিশ্চিত করার জন্য যে তাপমাত্রা ওয়েফার পৃষ্ঠে সমানভাবে বিতরণ করা যেতে পারে। উচ্চ তাপমাত্রার স্থিতিশীলতা এবং SiC উপকরণগুলির উচ্চ তাপ পরিবাহিতা দক্ষ এবং নির্ভরযোগ্য সেমিকন্ডাক্টর প্রক্রিয়াকরণ নিশ্চিত করে। Vetek সেমিকন্ডাক্টর প্রতিযোগিতামূলক মূল্যে মানসম্পন্ন পণ্য সরবরাহ করতে প্রতিশ্রুতিবদ্ধ।

VeTek সেমিকন্ডাক্টর সেমিকন্ডাক্টর উত্পাদনের জন্য উচ্চ-কার্যক্ষমতা সম্পন্ন SiC প্রক্রিয়া টিউব সরবরাহ করে। আমাদের SiC প্রসেস টিউবগুলি অক্সিডেশন, ডিফিউশন প্রসেসে এক্সেল। উচ্চতর মানের এবং কারুকার্য সহ, এই টিউবগুলি দক্ষ সেমিকন্ডাক্টর প্রক্রিয়াকরণের জন্য উচ্চ-তাপমাত্রার স্থিতিশীলতা এবং তাপ পরিবাহিতা প্রদান করে। আমরা প্রতিযোগিতামূলক মূল্য অফার করি এবং চীনে আপনার দীর্ঘমেয়াদী অংশীদার হতে চাই।

ভেটেক সেমিকন্ডাক্টরের এসআইসি ক্যান্টিলিভার প্যাডেল ওয়েফার নৌকাগুলি পরিচালনা ও সমর্থন করার জন্য তাপ চিকিত্সার চুল্লিগুলিতে ব্যবহৃত হয়। উচ্চ তাপমাত্রার স্থায়িত্ব এবং এসআইসি উপাদানের উচ্চ তাপীয় পরিবাহিতা অর্ধপরিবাহী প্রক্রিয়াকরণ প্রক্রিয়াতে উচ্চ দক্ষতা এবং নির্ভরযোগ্যতা নিশ্চিত করে। আমরা প্রতিযোগিতামূলক মূল্যে উচ্চমানের পণ্য সরবরাহ করতে প্রতিশ্রুতিবদ্ধ এবং চীনে আপনার দীর্ঘমেয়াদী অংশীদার হওয়ার প্রত্যাশায় রয়েছি।

ALD প্রক্রিয়া, মানে পারমাণবিক স্তর এপিট্যাক্সি প্রক্রিয়া। ভেটেক সেমিকন্ডাক্টর এবং এএলডি সিস্টেম নির্মাতারা এসআইসি প্রলিপ্ত এএলডি গ্রহীয় সংবেদনশীলগুলি বিকাশ ও উত্পাদন করেছেন যা সাবস্ট্রেটের উপরে বায়ুপ্রবাহকে সমানভাবে বিতরণ করতে ALD প্রক্রিয়াটির উচ্চ প্রয়োজনীয়তা পূরণ করে। একই সময়ে, আমাদের উচ্চ বিশুদ্ধতা সিভিডি এসআইসি লেপ প্রক্রিয়াটিতে বিশুদ্ধতা নিশ্চিত করে। আমাদের সাথে সহযোগিতা নিয়ে আলোচনা করতে স্বাগতম।

ভেটেক সেমিকন্ডাক্টরের টিএসি লেপা গ্রাফাইট সংজ্ঞাবহ গ্রাফাইট অংশগুলির পৃষ্ঠের ট্যানটালাম কার্বাইড লেপ প্রস্তুত করতে রাসায়নিক বাষ্প ডিপোজিশন (সিভিডি) পদ্ধতি ব্যবহার করে। এই প্রক্রিয়াটি সর্বাধিক পরিপক্ক এবং সেরা আবরণের বৈশিষ্ট্য রয়েছে। টিএসি লেপযুক্ত গ্রাফাইট সংজ্ঞাবহ গ্রাফাইট উপাদানগুলির পরিষেবা জীবনকে প্রসারিত করতে পারে, গ্রাফাইট অমেধ্যের স্থানান্তরকে বাধা দিতে পারে এবং এপিট্যাক্সির গুণমান নিশ্চিত করতে পারে e আমরা আপনার তদন্তের অপেক্ষায় রয়েছি।