ওয়েফার হ্যান্ডলিং এন্ড ইফেক্টর

ওয়েফার হ্যান্ডলিং এন্ড ইফেক্টর হ'ল এক ধরণের রোবট হাত যা বিশেষত সেমিকন্ডাক্টর শিল্পের জন্য ডিজাইন করা হয়, সাধারণত হ্যান্ডেল এবং স্থানান্তর করতে ব্যবহৃত হয়ওয়েফার। ওয়েফারগুলির উত্পাদন পরিবেশের জন্য অত্যন্ত উচ্চ পরিচ্ছন্নতা প্রয়োজন, কারণ ক্ষুদ্র কণা বা দূষকগুলি প্রক্রিয়াজাতকরণের সময় চিপগুলি ব্যর্থ হতে পারে। 

সিরামিক উপকরণগুলি তাদের দুর্দান্ত শারীরিক এবং রাসায়নিক বৈশিষ্ট্যের কারণে এই হাতগুলি তৈরিতে ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়।

বিশুদ্ধতা এবং রচনা

অ্যালুমিনার বিশুদ্ধতা সাধারণত ≥99.9% হয় এবং প্লাজমা এচিংয়ের প্রতিরোধের উন্নতি করতে ধাতব অমেধ্য (যেমন এমজিও, সিএও, সিও) 0.05% থেকে 0.8% এর মধ্যে নিয়ন্ত্রণ করা হয়।

α-ফেজ অ্যালুমিনা (কোরুন্ডাম কাঠামো) প্রধান, স্ফটিক প্রকারটি স্থিতিশীল, ঘনত্বটি 3.98 গ্রাম/সেমি³ এবং সিনটারিংয়ের পরে প্রকৃত ঘনত্ব 3.6 ~ 3.9 গ্রাম/সেমি³ ³

যান্ত্রিক সম্পত্তি

কঠোরতা: এমওএইচএস কঠোরতা 9 ~ 9.5, ভিকারদের কঠোরতা 1800 ~ 2100 এইচভি, স্টেইনলেস স্টিল এবং মিশ্রণের চেয়ে বেশি।

বাঁকানো শক্তি: 300 ~ 400 এমপিএ, যা ওয়েফারের উচ্চ গতির হ্যান্ডলিংয়ের যান্ত্রিক চাপকে সহ্য করতে পারে।

ইলাস্টিক মডুলাস: 380 ~ 400 জিপিএ, হ্যান্ডলিং আর্মটি কঠোর এবং বিকৃত করা সহজ নয় তা নিশ্চিত করার জন্য।

তাপ ও ​​বৈদ্যুতিক বৈশিষ্ট্য

তাপ পরিবাহিতা: 20 ~ 30 ডাব্লু/(এম · কে), এখনও স্থিতিশীল নিরোধক (প্রতিরোধ ক্ষমতা> 10⁴ ω · সেমি) বজায় রাখুন।

তাপমাত্রা প্রতিরোধের: দীর্ঘমেয়াদী ব্যবহারের তাপমাত্রা 850 ~ 1300 ℃ এ পৌঁছতে পারে, ভ্যাকুয়াম উচ্চ তাপমাত্রার পরিবেশের জন্য উপযুক্ত।

পৃষ্ঠের বৈশিষ্ট্য

পৃষ্ঠ রুক্ষতা: ওয়েফার স্ক্র্যাচগুলি এড়াতে RA≤ 0.2μm (পালিশ করার পরে)

ভ্যাকুয়াম শোষণ পোরোসিটি: ফাঁকা কাঠামো আইসোস্ট্যাটিক প্রেসিং দ্বারা অর্জিত, পোরোসিটি <0.5%।

দ্বিতীয়ত, কাঠামোগত নকশা বৈশিষ্ট্য

লাইটওয়েট এবং শক্তি অপ্টিমাইজেশন

একটি সংহত ছাঁচনির্মাণ প্রক্রিয়া ব্যবহার করে, ওজন ধাতব বাহুর মাত্র 1/3 হয়, জড়তা দ্বারা সৃষ্ট অবস্থান ত্রুটি হ্রাস করে।

শেষ-এফেক্টরটি গ্রিপার বা ভ্যাকুয়াম শোষণকারী হিসাবে ডিজাইন করা হয়েছে এবং যোগাযোগের পৃষ্ঠটি একটি অ্যান্টিস্ট্যাটিক লেপ দিয়ে প্রলেপ দেওয়া হয় যাতে ওয়েফারটিকে ইলেক্ট্রোস্ট্যাটিক শোষণ দ্বারা 710 দূষিত করা থেকে বিরত রাখতে পারে।

দূষণ প্রতিরোধ

উচ্চ বিশুদ্ধতা অ্যালুমিনা রাসায়নিকভাবে জড়, ধাতব আয়নগুলি প্রকাশ করে না এবং সেমি এফ 47 পরিষ্কার -পরিচ্ছন্নতার মান (কণা দূষণ <10 পিপিএম) পূরণ করে।

তৃতীয়, উত্পাদন প্রক্রিয়া প্রয়োজনীয়তা

গঠন এবং sintering

উপাদান ঘনত্ব> 99.5%নিশ্চিত করতে আইসোস্ট্যাটিক প্রেসিং (চাপ 200 ~ 300 এমপিএ)।

উচ্চ তাপমাত্রা সিনটারিং (1600 ~ 1800 ℃), শক্তি এবং দৃ ness ়তার ভারসাম্য বজায় রাখতে 1 ~ 5μm এ শস্য আকার নিয়ন্ত্রণ।

যথার্থ মেশিনিং

ডায়মন্ড গ্রাইন্ডিং প্রসেসিং, মাত্রিক নির্ভুলতা ± 0.01 মিমি, ফ্ল্যাটনেস ≤ 0.05 মিমি/মি

সেমিকন পণ্য দোকান: