পণ্য

Veteksemicon সেমিকন্ডাক্টর-গ্রেড কোয়ার্টজ ক্রুসিবল হল Czochralski একক ক্রিস্টাল বৃদ্ধি প্রক্রিয়ার মূল উপযোগী। আমাদের মূল ফোকাস হিসাবে চরম বিশুদ্ধতা এবং উচ্চতর তাপীয় স্থিতিশীলতার সাথে, আমরা গ্রাহকদের উচ্চ-মানের পণ্য সরবরাহ করতে প্রতিশ্রুতিবদ্ধ যা স্থিতিশীল কর্মক্ষমতা এবং উচ্চ তাপমাত্রা এবং উচ্চ চাপের পরিবেশে স্ফটিককরণের জন্য দুর্দান্ত প্রতিরোধ প্রদর্শন করে। এটি উত্স থেকে ক্রিস্টাল রডগুলির গুণমান নিশ্চিত করে, সেমিকন্ডাক্টর সিলিকন ওয়েফার উত্পাদনকে উচ্চ ফলন এবং ভাল ব্যয়-কার্যকারিতা অর্জনে সহায়তা করে।

Veteksemicon ফোকাস রিং বিশেষভাবে সেমিকন্ডাক্টর এচিং সরঞ্জাম, বিশেষ করে SiC এচিং অ্যাপ্লিকেশনের চাহিদার জন্য ডিজাইন করা হয়েছে। ইলেক্ট্রোস্ট্যাটিক চক (ESC) এর চারপাশে মাউন্ট করা, ওয়েফারের কাছাকাছি, এর প্রাথমিক কাজ হল প্রতিক্রিয়া চেম্বারের মধ্যে ইলেক্ট্রোম্যাগনেটিক ফিল্ড ডিস্ট্রিবিউশনকে অপ্টিমাইজ করা, সমগ্র ওয়েফার পৃষ্ঠ জুড়ে অভিন্ন এবং ফোকাসড প্লাজমা অ্যাকশন নিশ্চিত করা। একটি উচ্চ-পারফরম্যান্স ফোকাস রিং উল্লেখযোগ্যভাবে এচ রেট অভিন্নতা উন্নত করে এবং প্রান্তের প্রভাব হ্রাস করে, সরাসরি পণ্যের ফলন এবং উত্পাদন দক্ষতা বাড়ায়।

এলইডি এচিংয়ের জন্য ভেটেক্সেমিকন সিলিকন কার্বাইড ক্যারিয়ার প্লেট, বিশেষভাবে এলইডি চিপ তৈরির জন্য ডিজাইন করা হয়েছে, এটি এচিং প্রক্রিয়ায় একটি মূল ব্যবহারযোগ্য। নির্ভুল-সিন্টারযুক্ত উচ্চ-বিশুদ্ধতা সিলিকন কার্বাইড থেকে তৈরি, এটি অসাধারণ রাসায়নিক প্রতিরোধের এবং উচ্চ-তাপমাত্রার মাত্রিক স্থিতিশীলতা প্রদান করে, কার্যকরভাবে শক্তিশালী অ্যাসিড, ঘাঁটি এবং প্লাজমা থেকে ক্ষয় প্রতিরোধ করে। এর কম দূষণের বৈশিষ্ট্যগুলি LED এপিটাক্সিয়াল ওয়েফারগুলির জন্য উচ্চ ফলন নিশ্চিত করে, যখন এর স্থায়িত্ব, প্রথাগত উপকরণের তুলনায় অনেক বেশি, গ্রাহকদের সামগ্রিক অপারেটিং খরচ কমাতে সাহায্য করে, এটিকে এচিং প্রক্রিয়ার দক্ষতা এবং ধারাবাহিকতা উন্নত করার জন্য একটি নির্ভরযোগ্য পছন্দ করে তোলে।

PECVD-এর জন্য Veteksemicon গ্রাফাইট বোট উচ্চ-বিশুদ্ধ গ্রাফাইট থেকে নির্ভুল-মেশিন করা হয় এবং প্লাজমা-বর্ধিত রাসায়নিক বাষ্প জমার প্রক্রিয়ার জন্য বিশেষভাবে ডিজাইন করা হয়। সেমিকন্ডাক্টর থার্মাল ফিল্ড ম্যাটেরিয়ালস এবং নির্ভুল মেশিনিং ক্ষমতা সম্পর্কে আমাদের গভীর বোঝাপড়ার মাধ্যমে, আমরা ব্যতিক্রমী তাপীয় স্থিতিশীলতা, চমৎকার পরিবাহিতা এবং দীর্ঘ সেবা জীবন সহ গ্রাফাইট বোট অফার করি। এই বোটগুলিকে চাহিদাপূর্ণ PECVD প্রক্রিয়া পরিবেশে প্রতিটি ওয়েফার জুড়ে উচ্চ অভিন্ন পাতলা ফিল্ম জমা নিশ্চিত করার জন্য ডিজাইন করা হয়েছে, প্রক্রিয়ার ফলন এবং উত্পাদনশীলতা উন্নত করা হয়েছে।

Veteksemicon দ্বারা CVD TaC প্রলিপ্ত গ্রাফাইট রিং সেমিকন্ডাক্টর ওয়েফার প্রক্রিয়াকরণের চরম চাহিদা মেটাতে ইঞ্জিনিয়ার করা হয়েছে। রাসায়নিক বাষ্প জমা (CVD) প্রযুক্তি ব্যবহার করে, একটি ঘন এবং অভিন্ন ট্যানটালাম কার্বাইড (TaC) আবরণ উচ্চ-বিশুদ্ধ গ্রাফাইট সাবস্ট্রেটগুলিতে প্রয়োগ করা হয়, ব্যতিক্রমী কঠোরতা, পরিধান প্রতিরোধ ক্ষমতা এবং রাসায়নিক জড়তা অর্জন করে। সেমিকন্ডাক্টর ফ্যাব্রিকেশনে, CVD TaC প্রলিপ্ত গ্রাফাইট রিং MOCVD, এচিং, ডিফিউশন এবং এপিটাক্সিয়াল গ্রোথ চেম্বারে ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়, যা ওয়েফার ক্যারিয়ার, সাসেপ্টর এবং শিল্ডিং অ্যাসেম্বলিগুলির জন্য একটি মূল কাঠামোগত বা সিলিং উপাদান হিসাবে পরিবেশন করে। আপনার আরও পরামর্শের জন্য উন্মুখ.

VETEK দ্বারা উত্পাদিত ছিদ্রযুক্ত TaC প্রলিপ্ত গ্রাফাইট রিং একটি হালকা ওজনের ছিদ্রযুক্ত গ্রাফাইট সাবস্ট্রেট ব্যবহার করে এবং এটি একটি উচ্চ-বিশুদ্ধতা ট্যানটালাম কার্বাইড আবরণ দ্বারা প্রলিপ্ত, উচ্চ তাপমাত্রা, ক্ষয়কারী গ্যাস এবং প্লাজমা ক্ষয়ের চমৎকার প্রতিরোধের বৈশিষ্ট্যযুক্ত