পণ্য

Aixtron G10-SiC প্ল্যাটফর্মের জন্য VeTek সেমিকন্ডাক্টরের সলিড SiC আনুষাঙ্গিকগুলি হল উচ্চ-বিশুদ্ধতা, সম্পূর্ণ ঘন সিলিকন কার্বাইড উপাদান যা SiC এপিটাক্সিয়াল বৃদ্ধির চাহিদাপূর্ণ তাপ এবং রাসায়নিক পরিবেশের জন্য ডিজাইন করা হয়েছে। এই অংশগুলি অসামান্য উচ্চ-তাপমাত্রার স্থিতিশীলতা, রাসায়নিক প্রতিরোধের, এবং অতি-নিম্ন কণা তৈরি করে, উচ্চ-থ্রুপুট 9×150 মিমি / 6 × 200 মিমি প্ল্যানেটারি রিঅ্যাক্টর কনফিগারেশনকে সমর্থন করে যা পাওয়ার ডিভাইস তৈরিতে ব্যবহৃত হয়।

CVD SiC প্রলিপ্ত গ্রাফাইট যন্ত্রাংশের জন্য VETEK পেশাদার ক্লিনিং পরিষেবা হল একটি বিশেষ প্রযুক্তিগত পরিষেবা যা Aixtron / Veeco MOCVD সরঞ্জাম সাসেপ্টর এবং GaN / AlN / AlGaN এপিটাক্সিয়াল প্রক্রিয়াগুলিতে ব্যবহৃত গ্রাফাইট উপাদানগুলির জন্য ডিজাইন করা হয়েছে। আমাদের মালিকানাধীন পরিষ্কারের প্রক্রিয়াটি পৃষ্ঠের মেমরির প্রভাবকে পুঙ্খানুপুঙ্খভাবে দূর করে, চুল্লিতে স্থিতিশীল গ্যাস প্রবাহ পুনরুদ্ধার করে এবং 100 µm CVD SiC আবরণকে পরম শূন্য পুরুত্বের ক্ষতি এবং শূন্য ধাতব অবশিষ্টাংশের সাথে কঠোরভাবে রক্ষা করে।

ওয়েফার ক্যারিয়ারের জন্য VETEK CVD SiC প্রলিপ্ত গ্রাফাইট সাসেপ্টর হল সেমিকন্ডাক্টর এপিটাক্সি প্রক্রিয়াগুলির জন্য ডিজাইন করা একটি উচ্চ-পারফরম্যান্স ওয়েফার সমর্থন উপাদান। পণ্যটি সাবস্ট্রেট হিসাবে উচ্চ-বিশুদ্ধতা গ্রাফাইট ব্যবহার করে এবং একটি অভিন্ন CVD সিলিকন কার্বাইড (SiC) স্তর দিয়ে লেপা হয়, যা চমৎকার তাপীয় স্থিতিশীলতা, রাসায়নিক প্রতিরোধ এবং কণা নিয়ন্ত্রণ প্রদান করে। একটি গুরুত্বপূর্ণ গ্রাফাইট সাসেপ্টর উপাদান হিসাবে, এটি প্রতিক্রিয়া চেম্বারের ভিতরে ওয়েফারগুলিকে সরাসরি সমর্থন করে এবং অভিন্ন তাপমাত্রা বিতরণ এবং স্থিতিশীল এপিটাক্সিয়াল বৃদ্ধির অবস্থা বজায় রাখতে সহায়তা করে।

VeTek সেমিকন্ডাক্টর প্রিমিয়াম-গ্রেড হাই পিউরিটি সিলিকন কার্বাইড (SiC) পাউডার সরবরাহ করে যা বিশেষভাবে উচ্চ-ফলনকারী SiC ক্রিস্টাল গ্রোথ (PVT প্রক্রিয়া), সেমিকন্ডাক্টর সাবস্ট্রেট উৎপাদন, এবং উন্নত কার্যকরী সিরামিকের জন্য তৈরি। অতি-পরিচ্ছন্ন পরিশোধন প্রযুক্তির মাধ্যমে প্রক্রিয়াকৃত, আমাদের উচ্চ বিশুদ্ধতা SiC কাঁচামাল অত্যন্ত কম ট্রেস মেটাল স্তর, পুনরুত্পাদনযোগ্য পরমানন্দ কর্মক্ষমতা, এবং কঠোর সেমিকন্ডাক্টর উত্পাদন প্রয়োজনীয়তা পূরণের জন্য অত্যন্ত সামঞ্জস্যপূর্ণ ব্যাচ-টু-ব্যাচ গুণমান প্রদান করে।

TEL সেমিকন্ডাক্টর সরঞ্জামের জন্য VETEK হাই পিউরিটি কোয়ার্টজ ওয়েফার বোট সেমিকন্ডাক্টর-গ্রেড কোয়ার্টজ উপাদান থেকে তৈরি করা হয়েছে এবং উচ্চ-তাপমাত্রা প্রক্রিয়া যেমন ডিফিউশন, অক্সিডেশন, অ্যানিলিং এবং সিভিডিতে ওয়েফার পরিচালনার জন্য ডিজাইন করা হয়েছে। চমৎকার তাপীয় স্থিতিশীলতা, রাসায়নিক প্রতিরোধের, এবং কম দূষণ বৈশিষ্ট্য সহ, এটি সেমিকন্ডাক্টর উত্পাদন অ্যাপ্লিকেশনগুলির জন্য নির্ভরযোগ্য ওয়েফার সমর্থন প্রদান করে।

VETEK পোরাস TaC প্রলিপ্ত গ্রাফাইট রিং হল একটি তাপীয় ক্ষেত্রের উপাদান যা PVT (শারীরিক বাষ্প পরিবহন) প্রক্রিয়ার মাধ্যমে SiC একক স্ফটিক বৃদ্ধির জন্য তৈরি করা হয়েছে। এটি উচ্চ-বিশুদ্ধতার ছিদ্রযুক্ত গ্রাফাইট থেকে উত্পাদিত হয় এবং CVD প্রযুক্তি ব্যবহার করে ট্যানটালাম কার্বাইড (TaC) দিয়ে লেপা হয়। নকশাটি উচ্চ-তাপমাত্রার স্থিতিশীলতা, রাসায়নিক স্থিতিস্থাপকতা এবং নিয়ন্ত্রিত তাপীয় ক্ষেত্রের কর্মক্ষমতাকে লক্ষ্য করে। দূষণ কমিয়ে এবং প্রক্রিয়ার ধারাবাহিকতা সমর্থন করে, এই উপাদানটি পুনরুত্পাদনযোগ্য SiC স্ফটিক বৃদ্ধির ফলাফলগুলিতে অবদান রাখে।