পণ্য

আপনি যদি কখনও একটি ডিপোজিশন চেম্বারে অসম গ্যাস প্রবাহ বা কণা দূষণের সাথে মোকাবিলা করে থাকেন, VETEK CVD SiC প্রলিপ্ত গ্রাফাইট শাওয়ার হেড এটি সমাধান করার জন্য ডিজাইন করা হয়েছে। এটি তাপীয় স্থিতিশীলতা এবং সহজ যন্ত্রের জন্য উচ্চ-বিশুদ্ধতা আইসোস্ট্যাটিক গ্রাফাইট দিয়ে শুরু হয়, তারপরে একটি ঘন CVD সিলিকন কার্বাইড (SiC) আবরণ পায় যা পৃষ্ঠকে সিল করে, ক্ষয়কারী গ্যাসগুলিকে প্রতিরোধ করে (যেমন HCl বা NF₃), এবং গ্যাসের বাইরে যাওয়া রোধ করে৷ ফলাফল হল একটি গ্যাস ডিস্ট্রিবিউশন প্লেট যা ওয়েফার জুড়ে অভিন্ন প্রবাহ সরবরাহ করে, উচ্চ-তাপমাত্রার এপিটাক্সি পরিচালনা করে এবং বেয়ার গ্রাফাইট বা কোয়ার্টজের চেয়ে অনেক বেশি সময় স্থায়ী হয় – এটিকে CVD, PECVD, MOCVD, সিলিকন এপিটাক্সি এবং SiC এপিটাক্সি প্রক্রিয়ার জন্য একটি বিশ্বস্ত উপাদান করে তোলে। আমরা কাস্টম হোল প্যাটার্ন এবং মাপও অফার করি, কারণ কোন দুটি চুল্লি ঠিক একই নয়।

VeTek সেমিকন্ডাক্টর হাই পিউরিটি সিলিকন কার্বাইড (SiC) পাউডার বিশেষভাবে SiC স্ফটিক বৃদ্ধি, অর্ধপরিবাহী উপকরণ এবং উন্নত সিরামিক অ্যাপ্লিকেশনের জন্য তৈরি করা হয়েছে। উন্নত বিশুদ্ধকরণ প্রযুক্তি এবং কঠোর মান নিয়ন্ত্রণের মাধ্যমে, আমাদের SiC পাউডার অতি-নিম্ন অপরিষ্কার মাত্রা, স্থিতিশীল কণা বন্টন এবং উৎপাদন প্রক্রিয়ার চাহিদার জন্য চমৎকার সামঞ্জস্য প্রদান করে।

SiC PVT স্ফটিক বৃদ্ধি সেটআপগুলিতে, গ্রাফাইট অংশগুলি দীর্ঘ সময়ের জন্য খুব উচ্চ তাপমাত্রায় চালিত হয়। VeTek এর PyC প্রলিপ্ত গ্রাফাইট রিং এই ধরনের দায়িত্বের জন্য নির্মিত হয়েছে। একটি পাইরোলাইটিক কার্বন স্তর সিভিডির মাধ্যমে উচ্চ-বিশুদ্ধ গ্রাফাইটে জমা হয়। এটি অংশটিকে ভাল পৃষ্ঠের স্থায়িত্ব দেয় এবং অপারেশন চলাকালীন কম কণা বেরিয়ে আসে। বাষ্প প্রবাহ পরিচালনা করতে এবং চুল্লির ভিতরে তাপ কীভাবে ছড়িয়ে পড়ে তা পরিচালনা করতে আপনি সাধারণত তাপ ক্ষেত্রের এলাকায় এটি রাখেন। যখন জিনিসগুলি 2200°C এর উপরে চলে যায় তখন আবরণটি গ্রাফাইট পরমানন্দকেও ধীর করে দেয়, যা পুরো উপাদানটিকে দীর্ঘস্থায়ী করে।

ওয়েফার ট্র্যাকিং জোনকে ঘিরে ডিজাইন করা, সলিড SiC ফোকাস রিং রৈখিক প্লাজমা বিতরণ এবং সঠিক প্রান্ত থেকে কেন্দ্রে এচ প্রোফাইল নিশ্চিত করে৷ এই প্রিমিয়াম β-SiC উপাদানগুলি ভেটেক সেমিকন্ডাক্টর (উই তিয়ানইয়াও নিউ মেটেরিয়াল টেকনোলজি কোং, লিমিটেড) ডিপোজিটিক্যাল প্রযুক্তি ব্যবহার করে তৈরি করেছে। একটি ঘন, বাইন্ডারহীন ম্যাট্রিক্সে কাঁচামালকে বাষ্পীভূত করার মাধ্যমে, ভেটেক পুরানো উপকরণগুলিতে সাধারণ ছিদ্রযুক্ত মাইক্রো-গ্যাপগুলি দূর করে। স্ট্যান্ডার্ড কোয়ার্টজ বা সিলিকন শিল্ডিং-এর তুলনায়, আমাদের CVD SiC উপাদানগুলি ক্ষয়কারী হ্যালোজেন গ্যাসের তুলনায় অনেক ভালোভাবে দাঁড়ায়, গভীর সাব-7nm লজিক এবং ঘন মেমরি চিপ তৈরিতে ওয়েফারকে রক্ষা করে। আপনার আরও অনুসন্ধানের অপেক্ষায়।

VeTek থেকে এই AMAT 0200-03201 ওয়েফার লিফ্ট পিন উচ্চ-বিশুদ্ধ গ্রাফাইট দিয়ে শুরু হয়, তারপরে আমরা উপরে একটি ঘন CVD SiC আবরণ যোগ করি। এটি 300 মিমি এপিটাক্সি সিস্টেম এবং ফলিত উপকরণ ইপিআই রিঅ্যাক্টরের জন্য তৈরি করা হয়েছে। গ্রাফাইট এবং SiC কেন? গ্রাফাইট সত্যিই ভাল তাপ পরিচালনা করে। SiC স্তর ক্ষয়কারী গ্যাস গ্রহণ করে এবং দ্রুত ফুরিয়ে যায় না। পাতলা দেয়ালের নকশা? এটি ক্লিনার ওয়েফার উত্তোলন এবং অবস্থানের জন্য, কম কণা এবং উচ্চ তাপমাত্রায় দীর্ঘ অংশ জীবন। আমরা ASM, Aixtron, এবং LPE সিস্টেমের জন্য অনুরূপ SiC প্রলিপ্ত গ্রাফাইট অংশ তৈরি করি। আপনার তদন্তের জন্য উন্মুখ.

Vetek সেমিকন্ডাক্টর VEECO MOCVD সিস্টেমের জন্য ওয়েফার ক্যারিয়ার তৈরি করে, বিশেষ করে LED এপিটাক্সি কাজের জন্য যেমন GaN LEDs, নীল-সবুজ LEDs, এবং গভীর UV LED বৃদ্ধির জন্য তৈরি। এই ক্যারিয়ারগুলি উচ্চ-বিশুদ্ধ গ্রাফাইট দিয়ে শুরু করে এবং একটি ঘন CVD সিলিকন কার্বাইড (SiC) আবরণ পায়। এই সংমিশ্রণটি আপনি MOCVD-তে যে উচ্চ তাপমাত্রা দেখেন তার মধ্যে ভালভাবে ধরে রাখে - ভাল তাপীয় স্থিতিশীলতা, ক্ষয় প্রতিরোধের, এবং আবরণ স্থায়ী হয়।