পণ্য

VETEK CVD সিলিকন কার্বাইড (SiC) প্রলিপ্ত গ্রাফাইট RTP RTA ক্যারিয়ার দ্রুত থার্মাল প্রসেসিং (RTP) এবং সেমিকন্ডাক্টর উত্পাদনে ব্যবহৃত দ্রুত থার্মাল অ্যানিলিং (RTA) সিস্টেমের জন্য ডিজাইন করা হয়েছে। একটি ঘন CVD SiC আবরণ সহ উচ্চ-বিশুদ্ধতা আইসোস্ট্যাটিক গ্রাফাইট থেকে তৈরি, এটি অসামান্য তাপীয় স্থিতিশীলতা, চমৎকার তাপমাত্রা অভিন্নতা, উচ্চতর রাসায়নিক প্রতিরোধের, এবং অতি-নিম্ন কণা উত্পাদন প্রদান করে। বারবার দ্রুত গরম এবং শীতল চক্র সহ্য করার জন্য প্রকৌশলী, ক্যারিয়ারটি সিলিকন ওয়েফার অ্যানিলিং এবং অন্যান্য উচ্চ-তাপমাত্রা সেমিকন্ডাক্টর অ্যাপ্লিকেশনগুলির জন্য নির্ভরযোগ্য ওয়েফার সমর্থন এবং স্থিতিশীল প্রক্রিয়া কর্মক্ষমতা নিশ্চিত করে।

VETEK CVD TaC প্রলিপ্ত সাসেপ্টর একটি উচ্চ-বিশুদ্ধতা আইসোস্ট্যাটিক গ্রাফাইট সাবস্ট্রেটকে একটি ঘন CVD ট্যান্টালম কার্বাইড (TaC) আবরণের সাথে একত্রিত করে যাতে ব্যতিক্রমী তাপীয় স্থিতিশীলতা, ক্ষয় প্রতিরোধ ক্ষমতা এবং সেমিকন্ডাক্টর এপিটাক্সির চাহিদার জন্য কম কণা তৈরি হয়। SiC, GaN, এবং AlN এপিটাক্সিয়াল বৃদ্ধির জন্য ডিজাইন করা হয়েছে, এটি দূষণকে হ্রাস করে, ওয়েফার তাপমাত্রার অভিন্নতা উন্নত করে এবং উচ্চ-তাপমাত্রার MOCVD এবং CVD প্রক্রিয়াগুলিতে উপাদান পরিষেবা জীবন প্রসারিত করে।

VeTek সেমিকন্ডাক্টর থেকে CVD SiC প্রলিপ্ত RTP সাসেপ্টর সেমিকন্ডাক্টর উত্পাদন জুড়ে ব্যবহৃত দ্রুত তাপ প্রক্রিয়াকরণ (RTP) এবং দ্রুত থার্মাল অ্যানিলিং (RTA) সরঞ্জাম পরিবেশন করে। সাবস্ট্রেটটি উচ্চ-বিশুদ্ধতা আইসোস্ট্যাটিক গ্রাফাইট থেকে তৈরি করা হয়, যার উপরে একটি ঘন CVD সিলিকন কার্বাইড (SiC) স্তর জমা হয়। এই নির্মাণ উচ্চ তাপ পরিবাহিতা, শক্তিশালী রাসায়নিক নিষ্ক্রিয়তা, এবং বারবার উচ্চ-তাপমাত্রা সাইক্লিংয়ের অধীনে টেকসই মাত্রিক স্থিতিশীলতা প্রদান করে।

সেমিকন্ডাক্টর ক্রিস্টাল গ্রোথ অ্যাপ্লিকেশনের চাহিদার জন্য, VETEK থ্রি-পিস গ্রাফাইট ক্রুসিবল স্থিতিশীলতা, বিশুদ্ধতা এবং তাপীয় সমতা প্রদান করে যা প্রক্রিয়াটির জন্য প্রয়োজন। উচ্চ-গ্রেড আইসোস্ট্যাটিক গ্রাফাইট থেকে তৈরি—ঐচ্ছিক SiC, TaC, বা PyC আবরণ সহ—এর বিভক্ত নকশা শুধুমাত্র সুবিধার জন্য নয়। এটি সক্রিয়ভাবে তাপীয় চাপ কমায়, রক্ষণাবেক্ষণকে দ্রুত করে, এবং চক্রের পর চক্র সম্পাদন করে।

VETEK PG (Pyrolytic Graphite) প্রলিপ্ত রিং অর্ধপরিবাহী তাপীয় ক্ষেত্র এবং স্ফটিক বৃদ্ধির পরিবেশের জন্য নির্মিত যেখানে অভিন্ন তাপ বিতরণ এবং স্থিতিশীল তাপমাত্রা অ-আলোচনাযোগ্য। একটি উচ্চ-বিশুদ্ধ গ্রাফাইট বেস দিয়ে শুরু করে এবং একটি ঘন পাইরোলাইটিক গ্রাফাইট আবরণের সাথে সমাপ্ত, এই উপাদানটি ব্যতিক্রমী তাপ পরিবাহিতা প্রদান করে, গুরুতর তাপীয় শক সহ্য করে এবং চরম তাপমাত্রায় দীর্ঘ সময় ধরে এর মাত্রা বজায় রাখে। আপনি এই রিংগুলিকে ক্রিস্টাল গ্রোথ ফার্নেস, উচ্চ-তাপমাত্রা ওভেন এবং সেমিকন্ডাক্টরের জন্য তাপীয় ফিল্ড অ্যাসেম্বলিতে ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত দেখতে পাবেন—যেকোনও জায়গায় যে সঠিক তাপমাত্রা নিয়ন্ত্রণ সরাসরি প্রক্রিয়া পুনরাবৃত্তিযোগ্যতা এবং চূড়ান্ত পণ্যের গুণমানকে চালিত করে।

আপনি যদি কখনও একটি ডিপোজিশন চেম্বারে অসম গ্যাস প্রবাহ বা কণা দূষণের সাথে মোকাবিলা করে থাকেন, VETEK CVD SiC প্রলিপ্ত গ্রাফাইট শাওয়ার হেড এটি সমাধান করার জন্য ডিজাইন করা হয়েছে। এটি তাপীয় স্থিতিশীলতা এবং সহজ যন্ত্রের জন্য উচ্চ-বিশুদ্ধতা আইসোস্ট্যাটিক গ্রাফাইট দিয়ে শুরু হয়, তারপরে একটি ঘন CVD সিলিকন কার্বাইড (SiC) আবরণ পায় যা পৃষ্ঠকে সিল করে, ক্ষয়কারী গ্যাসগুলিকে প্রতিরোধ করে (যেমন HCl বা NF₃), এবং গ্যাসের বাইরে যাওয়া রোধ করে৷ ফলাফল হল একটি গ্যাস ডিস্ট্রিবিউশন প্লেট যা ওয়েফার জুড়ে অভিন্ন প্রবাহ সরবরাহ করে, উচ্চ-তাপমাত্রার এপিটাক্সি পরিচালনা করে এবং বেয়ার গ্রাফাইট বা কোয়ার্টজের চেয়ে অনেক বেশি সময় স্থায়ী হয় – এটিকে CVD, PECVD, MOCVD, সিলিকন এপিটাক্সি এবং SiC এপিটাক্সি প্রক্রিয়ার জন্য একটি বিশ্বস্ত উপাদান করে তোলে। আমরা কাস্টম হোল প্যাটার্ন এবং মাপও অফার করি, কারণ কোন দুটি চুল্লি ঠিক একই নয়।